[發明專利]待清洗工件的清洗方法及清洗設備

有效

• 申請號: 202010008946.8
• 申請日: 2020-01-03
• 公開（公告）號: CN111105996B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 夏余平;宋冬門;任德營;顧立勛;楊尊
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/67;B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種待清洗工件的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：

提供待清洗工件，所述待清洗工件包括基體和設于所述基體一側的第一待清洗部；

將所述待清洗工件置于臭氧的氣氛中，控制所述待清洗工件沿第一方向進行旋轉，所述第一方向為平行于所述第一待清洗部背離所述基體一側表面的方向；朝向平行于所述第一待清洗部背離所述基體一側表面的方向通入臭氧氣體；

將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中；

提高所述第一化學清洗液的溫度，以將所述第一化學清洗液的溫度從初始溫度提高到第一預設溫度，并保持第一預設時間；所述初始溫度為20-25℃，所述第一預設溫度可為30-40℃，所述第一預設時間為5-10min；

再次提高所述第一化學清洗液的溫度，以將所述第一化學清洗液的溫度從所述第一預設溫度提高到目標溫度，所述目標溫度為50-60℃；以將所述第一待清洗部去除，所述第一化學清洗液包括臭氧溶液；所述臭氧溶液即為將臭氧溶解在水中形成的溶液；以及

將所述待清洗工件置入水中進行水洗以去除殘留在所述待清洗工件表面的所述第一化學清洗液。

2.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，“將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中”包括：

將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中；

控制所述待清洗工件在所述第一化學清洗液中進行往復運動。

3.如權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述第一化學清洗液包括第一水平面，在“將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中”之后，還包括：

翻轉所述待清洗工件，以使所述第一待清洗部背離所述基體的一側遠離所述第一水平面。

4.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，在“將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中”之前，還包括：

將所述待清洗工件置于臭氧的氣氛中以將部分所述第一待清洗部去除。

5.如權利要求4所述的清洗方法，其特征在于，“將所述待清洗工件置于臭氧的氣氛中”包括：

提供密閉的第一化學清洗槽，將所述第一化學清洗液置入所述第一化學清洗槽中；

將臭氧氣體通入所述第一化學清洗槽中；以及

將所述待清洗工件置入所述第一化學清洗槽中的臭氧氣氛中。

6.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述待清洗工件還包括第二待清洗部，所述第二待清洗部設于所述第一待清洗部背離所述基體的一側，在“將所述待清洗工件置入第一化學清洗液中并進行化學清洗”之前，還包括：

將所述待清洗工件置入第二化學清洗液中進行化學清洗以將所述第二待清洗部去除；

所述第二化學清洗液清洗速率大于所述第一化學清洗液；以及

所述第二化學清洗液清洗精確度小于所述第一化學清洗液。

7.如權利要求6所述的清洗方法，其特征在于，在“將所述待清洗工件置入第二化學清洗液中進行化學清洗”之后還包括：

將所述待清洗工件置入水中進行水洗以去除殘留在所述待清洗工件表面的所述第二化學清洗液。