[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件的制造方法、襯底處理裝置及程序

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010004631.6
• 申請(qǐng)日: 2020-01-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111668134A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大橋直史;菊池俊之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社國(guó)際電氣
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 楊宏軍

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件的制造方法、襯底處理裝置及程序。目的在于，在連續(xù)對(duì)多個(gè)襯底進(jìn)行加熱處理的襯底處理裝置中，形成希望品質(zhì)的膜。提供下述技術(shù)：將第m片(m＜n)襯底搬入處理室，在處理室中對(duì)所述第m片襯底進(jìn)行加熱以形成膜，將第m片襯底從所述處理室搬出，然后，在處理室中沒(méi)有襯底的狀態(tài)下，使處理室中的處理待機(jī)規(guī)定時(shí)間，在待機(jī)后，向處理室搬入后續(xù)待處理的襯底，在處理室中對(duì)襯底進(jìn)行加熱以形成膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件的制造方法、襯底處理裝置及程序。

背景技術(shù)

作為制造半導(dǎo)體器件的裝置，存在將襯底逐片處理的單片裝置(例如專利文獻(xiàn)1)。在單片裝置中，例如，對(duì)襯底進(jìn)行加熱，并且向襯底上供給氣體，從而形成構(gòu)成為半導(dǎo)體器件的一部分的膜。

在針對(duì)多個(gè)襯底形成相同種類的膜的情況下，希望抑制襯底間的處理?xiàng)l件的偏差。所謂處理?xiàng)l件，例如是襯底的加熱溫度。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2012-54399號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

在以單片裝置連續(xù)對(duì)多個(gè)襯底進(jìn)行加熱處理的情況下，存在根據(jù)連續(xù)處理的片數(shù)而使得處理室的溫度變高的情況。在一部分膜中，若規(guī)定溫度變高，則膜質(zhì)變化，因此可能會(huì)無(wú)法在襯底上形成希望品質(zhì)的膜。

本發(fā)明目的在于，在連續(xù)對(duì)多個(gè)襯底進(jìn)行加熱處理的襯底處理裝置中，形成希望品質(zhì)的膜。

用于解決課題的方案

提供下述技術(shù)：將第m片(m＜n)襯底搬入處理室，在處理室中對(duì)所述第m片襯底進(jìn)行加熱以形成膜，將第m片襯底從所述處理室搬出，然后，在處理室中沒(méi)有襯底的狀態(tài)下，使處理室內(nèi)的處理待機(jī)規(guī)定時(shí)間，在待機(jī)后，向處理室搬入后續(xù)待處理的襯底，在處理室中對(duì)襯底進(jìn)行加熱以形成膜。

發(fā)明效果

能夠在連續(xù)對(duì)多個(gè)襯底進(jìn)行加熱處理的襯底處理裝置中形成希望品質(zhì)的膜。

附圖說(shuō)明

圖1是說(shuō)明襯底處理裝置的說(shuō)明圖。

圖2是說(shuō)明襯底處理裝置的說(shuō)明圖。

圖3是說(shuō)明組件的說(shuō)明圖。

圖4是說(shuō)明氣體供給部的說(shuō)明圖。

圖5是說(shuō)明氣體供給部的說(shuō)明圖。

圖6是說(shuō)明氣體供給部的說(shuō)明圖。

圖7是說(shuō)明襯底處理裝置的控制器的說(shuō)明圖。

圖8是說(shuō)明襯底處理工序的流程圖。

圖9是說(shuō)明襯底的溫度與處理片數(shù)的關(guān)聯(lián)的說(shuō)明圖。

圖10是說(shuō)明在襯底上形成的膜的晶粒尺寸的說(shuō)明圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

100…襯底、200…襯底處理裝置、201…處理室、213…加熱器、RC…反應(yīng)器、400…控制器

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖說(shuō)明實(shí)施方式。

(1)襯底處理裝置的構(gòu)成

使用圖1至圖7說(shuō)明襯底處理裝置的構(gòu)成。

圖1、圖2是說(shuō)明襯底處理裝置的概略的說(shuō)明圖，圖3至圖6是說(shuō)明襯底處理裝置具有的處理組件的說(shuō)明圖。圖7是說(shuō)明襯底處理裝置的控制器的說(shuō)明圖。以下，具體地說(shuō)明各構(gòu)成。