[發明專利]數字曝光機在審
| 申請號: | 202010001537.5 | 申請日: | 2020-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN111142326A | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發明(設計)人: | 袁廣才;李海旭 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 劉進 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 數字 曝光 | ||
本申請公開了一種數字曝光機,包括第一基板,第一基板上設有圖案層,圖案層上覆蓋有反光層,反光層上設有TFT層,TFT層包括多個間隔設置的TFT,TFT層上設有液晶層,液晶層上設有遮光層,遮光層包括間隔設置的黑矩陣,每個TFT與一個黑矩陣一一對應設置,遮光層上設有第二基板。根據本申請實施例提供的技術方案,其中該數字曝光機中設置圖案層和TFT層,兩者結合實現不同圖案的控制,使得形成的圖案種類更加多樣化,降低成本的同時可以重復使用,并且使用時反應速度能明顯加快;進一步的,上述數字曝光機可以不受尺寸的限制,做到任意想要的尺寸,具有光明的使用前景。
技術領域
本發明一般涉及數字曝光領域,尤其涉及一種數字曝光機。
背景技術
直接成像數字曝光可被用于制作印刷電路板(PCB,Printed Circuit Board)、球柵陣列(BGA,Ball Grid Array Package)、芯片尺寸封裝(CSP,Chip Scale Package)、平板顯示、實時條形碼標刻,以及計算機直接制版印刷等方面,這項打印工藝可直接將一副數字圖像從計算機發送至一塊印板上。
傳統的數字曝光技術中,每次不同圖案的曝光需要采用不同圖案的掩膜板進行更換,所需的材料較多并且成本較高,更換不同圖案的過程中花費的時間較多,效率較低;并且傳統的掩膜板尺寸有限制,沒法進行大尺寸產品的使用。
發明內容
鑒于現有技術中的上述缺陷或不足,期望提供一種數字曝光機。
一方面,提供一種數字曝光機,包括第一基板,所述第一基板上設有圖案層,所述圖案層上覆蓋有反光層,
所述反光層上方設有TFT層,所述TFT層包括多個間隔設置的TFT,所述TFT層上設有液晶層,所述液晶層上設有遮光層,所述遮光層包括間隔設置的黑矩陣,每個所述TFT與一個所述黑矩陣一一對應設置,所述遮光層上設有第二基板。
根據本申請實施例提供的技術方案,通過制備一種全新的數字曝光機,其中該數字曝光機中設置圖案層和TFT層,兩者結合實現不同圖案的控制,使得形成的圖案種類更加多樣化,降低成本的同時可以重復使用,并且使用時反應速度能明顯加快;進一步的,上述數字曝光機可以不受尺寸的限制,做到任意想要的尺寸,具有光明的使用前景。
附圖說明
通過閱讀參照以下附圖所作的對非限制性實施例所作的詳細描述,本申請的其它特征、目的和優點將會變得更明顯:
圖1為本實施例中數字曝光機結構示意圖;
圖2為本實施例中數字曝光機使用原理示意圖一;
圖3為本實施例中數字曝光機使用原理示意圖二。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本申請作進一步的詳細說明??梢岳斫獾氖牵颂幩枋龅木唧w實施例僅僅用于解釋相關發明,而非對該發明的限定。另外還需要說明的是,為了便于描述,附圖中僅示出了與發明相關的部分。
需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本申請。
請參考圖1,本實施例提供一種數字曝光機10,包括第一基板1,所述第一基板1上設有圖案層2,所述圖案層2上覆蓋有反光層3,
所述反光層3上方設有TFT層5(Thin Film Transistor,薄膜晶體管),所述TFT層5包括多個間隔設置的TFT51,所述TFT層5上設有液晶層7,所述液晶層7上設有遮光層8,所述遮光層8包括間隔設置的黑矩陣81,每個所述TFT51與一個所述黑矩陣81一一對應設置,所述遮光層8上設有第二基板9。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





