[發明專利]數字曝光機在審
| 申請號： | 202010001537.5 | 申請日： | 2020-01-02 |
| 公開（公告）號： | CN111142326A | 公開（公告）日： | 2020-05-12 |
| 發明（設計）人： | 袁廣才;李海旭 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/00 | 分類號： | G03F1/00;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 劉進 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 數字 曝光 | ||
1.一種數字曝光機，其特征在于，包括第一基板，所述第一基板上設有圖案層，所述圖案層上覆蓋有反光層，
所述反光層上方設有TFT層，所述TFT層包括多個間隔設置的TFT，所述TFT層上設有液晶層，所述液晶層上設有遮光層，所述遮光層包括間隔設置的黑矩陣，每個所述TFT與一個所述黑矩陣一一對應設置，所述遮光層上設有第二基板。
2.根據權利要求1所述的數字曝光機，其特征在于，所述圖案層包括多個間隔設置的斜坡面，每個所述斜坡面傾斜方向相同，每個所述斜坡面與所述第一基板之間的夾角為12-18°。
3.根據權利要求2所述的數字曝光機，其特征在于，所述遮光層未設所述黑矩陣的位置為開口區，所述斜坡面與所述開口區一一對應設置。
4.根據權利要求2所述的數字曝光機，其特征在于，所述圖案層為無機層或者有機層，所述圖案層厚度為
5.根據權利要求2所述的數字曝光機，其特征在于，所述反光層具體設置在所述圖案層的斜坡面上。
6.根據權利要求5所述的數字曝光機，其特征在于，所述反光層材料為銀或鋁，所述反光層厚度為
7.根據權利要求1所述的數字曝光機，其特征在于，還包括平坦層，所述平坦層設置在所述反光層與所述TFT層之間，所述平坦層覆蓋所述反光層和所述圖案層設置。
8.根據權利要求7所述的數字曝光機，其特征在于，所述平坦層為絕緣透明層，所述第二基板的材料為透明材料。
9.根據權利要求1所述的數字曝光機，其特征在于，所述TFT層與所述液晶層之間還設有PI層。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
