[發明專利]工藝控制方法、裝置、系統及存儲介質有效
| 申請號: | 202010001375.5 | 申請日: | 2020-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN111223799B | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發明(設計)人: | 王璠 | 申請(專利權)人: | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 鈄颯颯;臧建明 |
| 地址: | 430078 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工藝 控制 方法 裝置 系統 存儲 介質 | ||
本發明提供一種工藝控制方法、裝置、系統及存儲介質,該方法,包括:獲取傳感器的原始數據;對所述原始數據進行特征提取,得到特征數據;對所述特征數據和檢測設備的量測數據進行相關性分析,得到目標數據;將所述目標數據輸入錯誤檢測及分類FDC系統,以使得通過所述FDC系統輸出控制策略;根據所述控制策略,進行機臺的工藝控制。本發明可以通過對傳感器原始數據的特征提取,得到特征數據,并利用特征數據與量測數據之間的相關性,篩選出對量測數據有顯著影響的數據,將這些數據作為FDC系統的輸入,自動生成控制策略,從而可以有效提高傳感器數據的處理效率,實現對半導體工藝的在線流程控制。
技術領域
本發明涉及半導體技術領域,尤其涉及一種工藝控制方法、裝置、系統及存儲介質。
背景技術
隨著半導體技術的發展,半導體芯片上集成的電子器件的數量也越來越多。在芯片的制造過程中,往往需要經過上百道工藝步驟。而在每一道工藝步驟的機臺中,會有大量的傳感器對機臺狀況進行監測。例如,一個300mm晶圓廠的機臺每天收到的機臺傳感器數據(raw trace)就多達上億條。
目前,通常的做法是,工程師通過自己對工藝的理解和經驗,對傳感器時間序列數據進行采樣和統計,采用計算好的統計量設置上下限的方式進行工藝的在線流程控制。
但是上述方式對工程師的能力要求較高,傳感器的數據處理效率低下,容易出現大量的錯誤警報,導致機臺停機,影響工藝的生產進程。
發明內容
本發明提供一種工藝控制方法、裝置、系統及存儲介質,可以有效提高傳感器數據的處理效率,實現對半導體工藝的在線流程控制。
第一方面,本發明實施例提供一種工藝控制方法,包括:
獲取傳感器的原始數據;
對所述原始數據進行特征提取,得到特征數據;
對所述特征數據和檢測設備的量測數據進行相關性分析,得到目標數據;
將所述目標數據輸入錯誤檢測及分類FDC系統,以使得通過所述FDC系統輸出控制策略;
根據所述控制策略,進行機臺的工藝控制。
在一種可能的設計中,所述獲取傳感器的原始數據,包括:
按照預設的采樣率,獲取監測機臺狀態的各個傳感器的原始數據,其中,所述原始數據包括:微秒級數據,和/或毫秒級數據。
在一種可能的設計中,對所述原始數據進行特征提取,得到特征數據,包括:
分別提取所述原始數據在時域和頻域上的特征數據。
在一種可能的設計中,還包括:
將所述原始數據和所述特征數據存儲在關系數據庫中,或者大數據平臺。
在一種可能的設計中,對所述特征數據和檢測設備的量測數據進行相關性分析,得到目標數據,包括:
對時域上的特征數據進行切片處理,得到時間片特征數據;
對頻域上的特征數據進行切片處理,得到頻率片特征數據;
將所述時間片特征數據、所述頻率片特征數據與所述檢測設備的量測數據進行相關性分析,得到所述目標數據;其中,所述檢測設備用于檢測在線生產過程中的工藝數據。
在一種可能的設計中,對所述特征數據和檢測設備的量測數據進行相關性分析,得到目標數據,包括:
通過多元線性回歸,或者決策樹回歸方式,分析所述特征數據與所述檢測設備的量測數據的相關性;
濾除相關性低于預設閾值的特征數據,得到所述目標數據。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





