[發明專利]成膜掩模的制造方法

在審

• 申請號: 201980094895.0
• 申請日: 2019-04-01
• 公開（公告）號: CN113646461A
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發明（設計）人: 崎尾進;岸本克彥
• 申請（專利權）人: 堺顯示器制品株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 王娟;郝家歡

一種成膜掩模的制造方法，該成膜掩模具有在以拉伸在框架上的狀態固定的掩模基材的有源區域形成部排列成矩陣狀的多個開口部，包括：工序A，準備初始狀態的掩模基材，初始狀態的掩模基材以規定的條件被拉伸的狀態下固定于框架，使得能夠規定xy面；工序B，準備所確定的多個開口部的每一個在xy面中的位置的目標坐標數據；工序C：對多個開口部的每一個，預測由于形成開口部而產生的從目標坐標數據開始的位移量，生成減去位移量的校正數據；以及工序D：在基于目標坐標數據和校正數據確定的位置形成多個開口部的每一個；在工序C中關于多個開口部的每一個的校正數據與形成多個開口部的順序相關聯，且在工序D中多個開口部按照順序形成。

技術領域

本發明涉及成膜掩模的制造方法，特別是涉及適用于高精細的有機EL(ElectroLuminescence：電致發光)顯示裝置的量產的成膜掩模的制造方法。成膜掩模指的是包括薄膜沉積技術(例如Physical Vapor Deposition(PVD)、Chemical Vapor Deposition(CVD)等。)中使用的掩模。以下，以作為PVD的一種的真空蒸鍍法為例進行說明。

背景技術

近年來，有機EL顯示裝置已實用化。在當前量產的中小型的有機EL顯示裝置中，有機EL層的形成主要使用真空蒸鍍法來進行。有機EL層例如包含空穴輸送層、電子輸送層及配置于它們之間的有機發光層。空穴輸送層還可以兼作有機發光層。將至少包含有機發光層和電子輸送層的且由有機材料形成的層稱為有機EL層。

有機EL顯示裝置具有：針對每個像素至少一個有機EL元件(OrganicLightEmitting Diode：OLED)和控制向每個OLED供給的電流的至少一個TFT(ThinFilmTransistor)。以下，將有機EL顯示裝置稱為OLED顯示裝置。如上所述，針對每個OLED，具有TFT等開關元件的OLED顯示裝置被稱為有源矩陣型OLED顯示裝置。另外，形成TFT和OLED的基板被稱為元件基板。包含TFT的驅動電路被稱為背板電路(或簡稱為“背板”)，OLED形成在背板上。

在可進行彩色顯示的有機EL顯示裝置中，例如由R像素、G像素、B像素構成一個彩色顯示像素。構成彩色顯示像素的不同顏色的像素有時也被稱為原色像素。本說明書中的像素有時也稱為“點”，彩色顯示像素稱為“像素”。例如，表示分辨率的ppi(pixel perinch)表示1英寸所包含的“像素”的數量。

另外，在用三種不同顏色的像素構成一個彩色顯示像素的情況下，三種不同顏色的像素的形狀、大小也可以彼此不同。例如，可以增大發光效率低的藍色的像素，減小發光效率高的綠色的像素。或者，也可以由一個紅色像素、一個綠色像素以及兩個藍色像素構成一個彩色顯示像素。另外，像素排列可以是條紋排列、三角形排列，也可以是公知的各種排列。

有機EL層使用按顏色來準備的成膜掩模并通過真空蒸鍍法形成。除了有機EL層以外，在有機EL層上形成的電極層(例如陰極層)也可以使用成膜掩膜通過例如濺射法形成。另外，在有機EL層下形成的電極層(例如陽極層)，由于有機EL層不會暴露于顯影液中，所以可以通過光刻工藝形成。

以往，作為成膜掩模，使用在金屬層(金屬板)上以規定的圖案形成有多個開口部的金屬掩模(Fine Metal Mask：有時被稱為FMM。)(例如，專利文獻1)。為了對應OLED顯示裝置的高精細化，提出有能夠形成比金屬掩模更高精細的圖案的且具有樹脂層與磁性金屬層層疊而成的層疊體的成膜掩模(以下，稱為“層疊型掩模”。)(例如，專利文獻2、3)。

在本說明書中，將形成有成膜掩模的開口部(成膜的物質通過的貫通孔)的部件稱為掩模基材。在金屬掩模中，金屬層(典型地為磁性金屬層)為掩模基材，在層疊型掩模中，樹脂層與磁性金屬層的層疊體內的樹脂層為掩模基材。另外，將成膜掩模的部分中與作為成膜對象的元件基板(例如形成有背板的階段性元件)的有源區域(也稱為“元件形成區域”或“顯示區域”。)緊貼的部分稱為有源區域形成部。

現有技術文獻

專利文獻