[發(fā)明專利]蒸鍍掩模和蒸鍍掩模的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980089942.2
• 申請日: 2019-12-19
• 公開（公告）號: CN113330135A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 觀田康克
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日本顯示器
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 邸萬杰

本發(fā)明涉及在蒸鍍區(qū)域由薄膜形成的蒸鍍掩模中，具有薄膜與保持薄膜的保持框之間的穩(wěn)定的連接結(jié)構(gòu)的蒸鍍掩模包括：形成有多個開口的薄膜狀的掩模主體；設(shè)置在上述掩模主體的周圍的保持框；和連接上述掩模主體與上述保持框的連接部件。在俯視時，在與上述保持框接觸的區(qū)域中的上述連接部件的第1外緣，相比于與上述連接部件接觸的上述掩模主體的第2外緣，位于外側(cè)。在觀察截面時，在從上述第1外緣至上述第2外緣之間，上述連接部件的表面逐漸靠近上述第2外緣。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的實施方式之一涉及蒸鍍掩模和蒸鍍掩模的制造方法。尤其是，本發(fā)明的實施方式之一涉及具有薄膜狀的掩模主體的蒸鍍掩模和蒸鍍掩模的制造方法。

背景技術(shù)

作為平板型顯示裝置的一例，能夠舉例液晶顯示裝置和有機EL(Electroluminescence)顯示裝置。這些顯示裝置為在基板上層疊有包含絕緣體、半導體、導電體等的各種材料的薄膜的結(jié)構(gòu)體。這些薄膜通過被適當?shù)貓D案化、被連接，從而實現(xiàn)作為顯示裝置的功能。

形成薄膜的方法大致區(qū)分可以分類為氣相法、液相法、固相法。氣相法分類為物理氣相法和化學氣相法。作為物理氣相法的代表性的例子公知有蒸鍍法。蒸鍍法之中最簡單的方法為真空蒸鍍法。真空蒸鍍法通過在高真空下對材料進行加熱，使材料升華或者蒸發(fā)來生成材料的蒸汽(以下將它們總地稱為汽化)。在用于使該材料堆積的區(qū)域(以下稱為蒸鍍區(qū)域)中，汽化了的材料固化并堆積，由此獲得材料的薄膜。對于蒸鍍區(qū)域有選擇地形成薄膜，為了在除此以外的區(qū)域(以下稱為非蒸鍍區(qū)域)中不堆積材料，使用掩模(蒸鍍掩模)進行真空蒸鍍(參照專利文獻1和2)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-87840號公報

專利文獻2：日本特開2013-209710號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問題

在專利文獻1和2中公開了蒸鍍區(qū)域由薄膜形成的蒸鍍掩模，為了使蒸鍍區(qū)域的薄膜的形狀和位置的精度提高，要求將該薄膜穩(wěn)定地連接在保持框中的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的實施方式之一的課題之一為，提供在蒸鍍區(qū)域由薄膜形成的蒸鍍掩模中，薄膜與保持薄膜的保持框之間穩(wěn)定的連接結(jié)構(gòu)。

用于解決課題的技術(shù)方案

本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍掩模包括：形成有多個開口的薄膜狀的掩模主體；設(shè)置在所述掩模主體的周圍的保持框；和連接所述掩模主體與所述保持框的連接部件，在俯視時，與所述保持框接觸的區(qū)域中的所述連接部件的第1外緣，相比于與所述連接部件接觸的所述掩模主體的第2外緣，位于外側(cè)，在觀察截面時，在從所述第1外緣至所述第2外緣之間，所述連接部件的表面逐漸靠近所述第2外緣。

本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍掩模的制造方法，其中，準備形成有多個開口的掩模主體，在具有第1面和與所述第1面相對的第2面的保持框的所述第1面上，以使所述第1面的一部分露出的方式形成第1剝離層，在所述第1剝離層上形成第2剝離層，使得所述第2剝離層的一部分從所述第1剝離層露出，以與所述保持框的所述第1面與所述第2面之間的第3面、所述第1剝離層的側(cè)面、所述第2剝離層的側(cè)面和所述掩模主體接觸的方式形成連接部件，除去所述第1剝離層和所述第2剝離層，以露出所述保持框的第1面和與所述第1剝離層以及所述第2剝離層相接觸地形成的所述連接部件的表面。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍裝置的俯視圖。

圖2是本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍裝置的側(cè)視圖。

圖3是本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍源的截面圖。

圖4是本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍掩模的俯視圖。

圖5是本發(fā)明的一個實施方式的蒸鍍掩模的截面圖。