[發明專利]靶、成膜裝置和成膜對象物的制造方法

在審

• 申請號: 201980089825.6
• 申請日: 2019-12-25
• 公開（公告）號: CN113330138A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 鳥居博典;影山浩二
• 申請（專利權）人: JSWAFTY公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35;H05H1/46
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 南霆;李有財

1.一種靶，具備：

靶構件，形成為筒形狀；以及

支撐構件，支撐所述靶構件，其中，

所述支撐構件具有經由粘接構件與所述靶構件相接的壁部，

所述壁部具有以第一厚度形成的第一部位、以比所述第一厚度厚的第二厚度形成的第二部位和以所述第一厚度形成的第三部位，

所述第二部位被所述第一部位和所述第三部位夾在中間，

所述第一部位和所述第三部位相對于與所述筒形狀的中心線正交且將所述靶構件二等分的假想面呈對稱配置。

2.如權利要求1所述的靶，其中，所述第二部位包括比所述第一厚度厚且比所述第二厚度薄的凹部。

3.如權利要求1所述的靶，其中，所述靶構件由圓筒形狀構成。

4.一種成膜裝置，具備：

保持部，保持成膜對象物；

等離子體生成部，生成等離子體；

靶，設置在所述保持部與所述等離子體生成部之間；以及

固定部，固定所述靶，其中，

所述靶具有形成為筒形狀的靶構件和支撐所述靶構件的支撐構件，

所述支撐構件包括經由粘接構件與所述靶構件相接的壁部，

所述壁部具有以第一厚度形成的第一部位、以比所述第一厚度厚的第二厚度形成的第二部位和以所述第一厚度形成的第三部位，

所述第二部位被所述第一部位和所述第三部位夾在中間，

所述第一部位和所述第三部位相對于與所述筒形狀的中心線正交且將所述靶構件二等分的假想面呈對稱配置，

所述固定部包括主體部和按壓所述靶的按壓部，

所述成膜裝置具有：

第一密封構件，與所述第一部位、所述第二部位和所述按壓部接觸；

第二密封構件，與所述第二部位、所述第三部位和所述主體部接觸；以及

第三密封構件，與所述主體部和所述按壓部接觸。

5.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，

所述第一密封構件由O形環構成，

所述第二密封構件也由O形環構成，

所述第三密封構件也由O形環構成。

6.如權利要求5所述的成膜裝置，其中，所述第一密封構件和所述第二密封構件由相同尺寸的O形環構成。

7.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，所述主體部具有與所述第二部位相對的側面，

在所述第二部位與所述側面之間存在間隙。

8.如權利要求7所述的成膜裝置，其中，所述間隙由所述第一密封構件、所述第二密封構件和所述第三密封構件密閉。

9.如權利要求8所述的成膜裝置，其中，在所述間隙中流過用于對所述靶進行冷卻的冷卻水。

10.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，所述固定部構成為能夠卸除所述靶。

11.如權利要求10所述的成膜裝置，其中，所述固定部構成為也能夠安裝翻轉后的所述靶。

12.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，所述等離子體生成部利用電子回旋共振現象來生成等離子體。

13.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，所述成膜裝置具有向所述靶施加高頻電壓的高頻電源部。

14.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，所述成膜對象物具有解理面。