[發明專利]工件保持部旋轉單元及真空處理裝置

在審

• 申請號: 201980089399.6
• 申請日: 2019-11-26
• 公開（公告）號: CN113316661A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 高田直毅;竹內慎;荒木宏祐;東大助;森山和男;清水裕貴
• 申請（專利權）人: 東和株式會社
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 賀財俊;臧建明

本發明提供一種工件保持部旋轉單元，可應對真空處理的角度依賴性。本發明包括：旋轉軸20；旋轉輪40，能夠以所述旋轉軸20為中心進行旋轉；多個工件保持部60，能夠保持工件W，配置成在以所述旋轉軸20為中心的圓周上排列，且以能夠以相對于所述旋轉軸20的軸線傾斜的軸線為中心進行旋轉的方式設置于所述旋轉輪40；以及固定圓盤70，形成為以所述旋轉軸20為中心的圓盤狀，并且配置成與多個所述工件保持部60接觸，伴隨著所述旋轉輪40的旋轉使所述工件保持部60旋轉。

技術領域

本發明涉及一種工件保持部旋轉單元及真空處理裝置的技術。

背景技術

現有的工件保持部旋轉單元及真空處理裝置的技術如例如專利文獻1所記載。

在專利文獻1中，已公開一種涂布裝置(coating device)，其是一面使小徑工具旋轉，一面進行涂布。所述涂布裝置包括：自轉夾具(jig)，可保持小徑工具，并且進行旋轉(自轉)；小公轉夾具，使自轉夾具以小公轉軸為中心而旋轉(小公轉)；以及大公轉夾具，使小公轉夾具以大公轉軸為中心而旋轉(大公轉)。自轉夾具、小公轉夾具及大公轉夾具的軸線(旋轉中心線)配置成相互平行。又，在所述大公轉夾具等的側方，配置有靶材(target)。

在如上所述而構成的涂布裝置中，一面使小徑工具進行自轉、小公轉及大公轉，一面利用自靶材發出的材料對小徑工具實施涂布。通過進行如上所述的自轉及公轉，可對小徑工具的整個表面實施涂布。

但是，在專利文獻1所述的技術中，在使小徑工具進行旋轉(自轉及公轉(小公轉及大公轉))的情況下，雖然小徑工具的側面與靶材相向，但上表面不會與靶材相向。因此，在小徑工具的側面及上表面有可能產生涂布不均，此方面存在改善的余地。

例如，在濺射法中，存在根據自濺射靶材發出的成膜材料的粒子到達工件時的角度，所形成的膜的膜質不同的情況。又，在干式蝕刻裝置、表面改質裝置等成膜裝置以外的等離子體處理裝置中，也存在根據等離子體到達工件時的角度，處理特性或處理性能不同的情況。期望能夠應對此種真空處理中的角度依賴性的技術。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2007-77469號公報

發明內容

發明所要解決的問題

本發明是鑒于如以上所述的狀況而完成，其所要解決的問題在于提供一種工件保持部旋轉單元及真空處理裝置，能夠應對真空處理的角度依賴性。

解決問題的技術手段

本發明所要解決的問題如以上所述，為了解決所述課題，本發明的工件保持部旋轉單元包括：旋轉軸；旋轉部，能夠以所述旋轉軸為中心而旋轉；多個工件保持部，能夠保持工件，配置成在以所述旋轉軸為中心的圓周上排列，且以能夠以相對于所述旋轉軸的軸線傾斜的軸線為中心而旋轉的方式設置于所述旋轉部；以及旋轉驅動部，形成為以所述旋轉軸為中心的圓盤狀，并且配置成與多個所述工件保持部接觸，伴隨著所述旋轉部的旋轉，使所述工件保持部旋轉。

又，本發明的真空處理裝置包括所述工件保持部旋轉單元。

發明的效果

根據本發明，能夠應對真空處理的角度依賴性。

附圖說明

[圖1]是表示濺射裝置的概略結構的A-A剖面示意圖。

[圖2]是所述濺射裝置的概略結構的平面剖面示意圖。

[圖3]是表示成膜室的內部結構的前視剖面圖。

[圖4]是表示成膜室的內部結構的前視剖面放大圖。

[圖5]是表示工件保持部的周邊的前視剖面圖。