[發明專利]流量限制件、流量限制組件和光刻設備

在審

• 申請號: 201980080784.4
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN113168120A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: B·B·C·G·范艾爾頓;P·J·J·H·A·哈彼特斯;R·范德米瑞東克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F15D1/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王益

本發明涉及一種流量限制件(200)、一種流量限制組件(400)和用于制造所述流量限制件和所述流量限制組件的方法。用于管道(300)中以便限制流體的流量的所述流量限制件包括主體，所述主體沿軸線(290)延伸且包括：i)具有恒定的橫截面的中心部分(240)；ii)上游部分(220)，其中所述上游部分的橫截面積在沿所述軸線的下游方向上單調地增加；以及iii)下游部分(260)，其中所述下游部分的橫截面積沿所述下游方向單調地減小。所述流量限制件還包括用于與管道的內表面接合的多個中心部分突出部(280)，所述多個中心部分突出部中的每個中心部分突出部沿垂直于所述中心部分的表面的方向從所述中心部分的表面突伸出小于500微米的距離。

相關申請的交叉引用

本申請要求2018年12月6日遞交的歐洲申請18210707.8的優先權，并且所述歐洲申請的全部內容通過引用并入本文中。

技術領域

本發明涉及一種流量限制件、一種流量限制組件、一種光刻設備、一種用于制造所述流量限制件的方法和一種用于制造所述流量限制組件的方法。

背景技術

光刻設備是被構造成將期望的圖案施加至襯底上的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(IC)制造中。光刻設備可以例如將圖案形成裝置(例如，掩模)的圖案(常常也稱為“設計布局”或“設計”)投影至被設置在襯底(例如，晶片)上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。

在這樣的光刻設備內，使用熱調節流體(例如，諸如水之類的液體)以使光刻設備的部件的熱狀況保持在預定規格內。使用包括一個或更多個互連管道的熱調節回路將所述熱調節流體提供至所述光刻設備的部件。這些管道包括用于限制熱調節流體通過管道的流量的流量限制件，以便控制和設定熱調節的量。

常規的流量限制件包括布置于管道中的板中的小孔。這種流量限制件通過引發熱調節流體的分離的湍流來產生壓降。得到的湍流產生所謂的流動引發的振動(FIV)。這種FIV可能傳播至光刻設備的振動敏感部件且影響光刻設備的振動敏感部件，例如，用以將圖案形成裝置的圖案投影至襯底上的光學部件。這可能導致投影至襯底上的圖案中的聚焦和重疊誤差。

抑制FIV的流量限制件、或低FIV流量限制件包括具有小直徑通道的流量限制件，其中所述通道上游的直徑非常平緩地減小且所述通道下游的直徑非常平緩地增加。這些流量限制件難以制造，在管道中需要大量空間且易于被可能存在于熱調節流體中的污染物顆粒阻塞。

發明內容

例如，期望提供一種流量限制件，所述流量限制件抑制流動引發的振動且是緊湊的、易于制造，且較不易于被污染物顆粒阻塞。

根據本發明的一方面，提供一種用于布置于管道中以便限制所述管道中的流體的流量的流量限制件。所述流量限制件包括沿軸線延伸的主體。所述主體包括：中心部分，所述中心部分沿所述軸線具有恒定的截面積；上游部分，所述上游部分沿所述軸線連接至所述中心部分的上游側，其中所述上游部分的橫截面積在沿所述軸線的下游方向上單調地增加；以及下游部分，所述下游部分連接至所述中心部分的下游側，其中所述下游部分的橫截面積沿所述下游方向單調地減小。所述流量限制件還包括用于與管道的內表面接合的多個中心部分突出部，其中每個中心部分突出部沿垂直于所述中心部分的表面的方向從所述中心部分的表面突伸出小于500μm的距離。

根據本發明的另一方面，提供一種流量限制組件，所述流量限制組件包括所述流量限制件和管道，其中所述管道包括管道內表面，所述流量限制件的主體同心地布置于所述管道內，使得所述主體的中心部分與所述管道內表面之間的距離是均一的；并且所述流量限制件的中心部分突出部中的每個中心部分突出部與所述管道內表面接合以便將所述流量限制件相對于所述管道保持在適當的位置，并且使得所述主體的所述中心部分與所述管道內表面之間的距離小于500μm。

根據本發明的另一方面，提供一種光刻設備，包括所述流量限制組件。