[發明專利]在硬陶瓷涂層中制造納米脊的方法

在審

• 申請號: 201980071950.4
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN112969966A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: M·A·阿克巴斯;T·尤特迪杰克;C·J·馬松;M·利普森;D·H·彼得森;M·佩里;P·赫爾馬斯;J·J·董;D·索拉比巴巴黑德利
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種用于在光刻工藝中使用的減少物體對表面的粘附的方法，所述方法包括：

在控制計算機處接收指令，所述指令用于被配置為修改所述表面的工具；以及

基于在所述控制計算機處接收到的所述指令，以確定性方式形成具有溝和脊的修改表面，其中所述脊通過減小所述修改表面的接觸表面積來減少所述粘附。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述修改表面是由于移動工具的工具尖端導致所述表面的塑性變形使得基本上沒有材料損失而引起的。

3.根據權利要求1所述的方法，還包括：

從成像設備獲取所述表面的圖像；

基于所述圖像在所述表面的坐標空間中配準工具尖端；以及

控制所述工具將所述工具尖端移動到所述坐標空間中的預定義坐標，以創建所述溝和所述脊。

4.根據權利要求3所述的方法，其中所述控制具有1微米或更小的水平分辨率和10納米或更小的垂直分辨率，并且其中由所述工具尖端傳遞的力的分辨率為1毫牛頓或更小。

5.根據權利要求3所述的方法，所述控制還包括控制所述工具尖端以形成具有多個平行脊的所述修改表面。

6.根據權利要求3所述的方法，所述控制還包括控制所述工具尖端以形成具有對應于非均勻粒結負載的非均勻密度的脊的所述修改表面。

7.根據權利要求1所述的方法，其中當形成所述修改表面時，所述表面處于15至40攝氏度之間。

8.一種計算機程序產品，包括：非暫時性計算機可讀介質，其上記錄有指令，所述指令在由計算機執行時實現上述權利要求中任一項所述的方法。

9.一種用于光刻工藝的裝置，所述裝置包括：

修改表面，所述修改表面包括多個溝和脊，所述多個溝和脊形成減小的接觸表面積以減少物體對所述修改表面的粘附，其中所述多個脊的至少60％具有小于100納米的高度變化。

10.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個脊具有從未修改表面的平均高度測量的脊高度。

11.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個脊的至少80％具有小于100納米的高度變化。

12.根據權利要求11所述的裝置，其中所述多個脊的至少60％具有小于10納米的高度變化。

13.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個脊的至少80％具有小于5納米的高度變化。

14.根據權利要求9所述的裝置，其中所述高度變化是在基本上所有所述修改表面上測量的。

15.根據權利要求9所述的裝置，還包括多個粒結，所述粒結包括在對應的多個粒結表面上的所述多個溝和脊。

16.根據權利要求9所述的裝置，所述多個粒結中的至少一些粒結具有涂層，其中所述多個溝和脊形成在所述涂層中。

17.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個溝和脊是平行的。

18.根據權利要求9所述的裝置，還包括多個山頂，其中所述多個溝和脊被形成在所述山頂上。

19.根據權利要求18所述的裝置，其中所述多個溝和脊基本上垂直于所述山頂而被形成。

20.根據權利要求9所述的裝置，其中所述修改表面在從襯底延伸的粒結上。