[發(fā)明專利]用于對準多束檢查裝置中的電子束的系統(tǒng)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980068721.7
• 申請日: 2019-09-20
• 公開（公告）號: CN112889127A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設計）人: 胡學讓;羅希楠;席慶坡;劉學東;任偉明
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H01J37/28
• 分類號: H01J37/28;H01J37/317
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 鄭振

1.一種用于檢查晶片的帶電粒子束裝置，包括：

第一電子檢測器件，其用于檢測用于所述晶片的檢查的多個次級電子束；和

第二電子檢測器件，其用于生成所述多個次級電子束的一個或多個束斑點的一個或多個圖像，其中所述第二電子檢測器件被配置為用來確定與所述第一電子檢測器件相關聯(lián)的對準特性。

2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中與所述第一電子檢測器件相關聯(lián)的所述對準特性包括：所述多個次級電子束中的一個或多個次級電子束的如下特性，該特性與所述多個次級電子束中的所述一個或多個次級電子束和所述第一電子檢測器件的對準有關。

3.根據(jù)權利要求1所述的裝置，進一步包括次級投影系統(tǒng)，其用來將所述多個次級電子束投影到所述第一電子檢測器件的檢測表面、或所述第二電子檢測器件的檢測表面上。

4.根據(jù)權利要求3所述的裝置，其中所述次級投影系統(tǒng)與次級光軸對準。

5.根據(jù)權利要求4所述的裝置，其中所述次級投影系統(tǒng)將所述多個次級電子束在檢查模式中投影到所述第一電子檢測器件的所述檢測表面上，并且在對準模式中投影到所述第二電子檢測器件的所述檢測表面上。

6.根據(jù)權利要求1所述的裝置，進一步包括控制器，所述控制器包括用以確定與所述第一電子檢測器件相關聯(lián)的所述對準特性的電路，確定所述對準特性是基于所述多個次級電子束的所述一個或多個束斑點的所述一個或多個圖像。

7.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其中所述控制器包括用以提供用戶接口的電路，所述用戶接口用于用戶基于所確定的所述對準特性來調節(jié)所述次級投影系統(tǒng)的配置，以校準所述多個次級電子束中的一個或多個次級電子束與所述第一電子檢測器件的對準。

8.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其中所述控制器包括用以基于所確定的所述對準特性而自動調節(jié)所述次級投影系統(tǒng)的配置的電路，所述自動調節(jié)所述次級投影系統(tǒng)的配置用以校準所述多個次級電子束中的一個或多個次級電子束與所述第一電子檢測器件的對準。

9.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述對準特性包括所述多個次級電子束的所述一個或多個束斑點的聚焦質量。

10.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述第二電子檢測器件包括：

電子-光轉換單元，其被配置為將所述多個次級電子束轉換為多個光束，和

光學相機，其用來基于所述多個光束而產生所述多個次級電子束的所述一個或多個束斑點的所述一個或多個圖像。

11.根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中所述第二電子檢測器件進一步包括反射鏡，所述反射鏡用以將所述多個光束引導向所述光學相機。

12.根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中所述電子-光轉換單元包括閃爍體。

13.根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中所述光學相機包括電荷耦合器件(CCD)傳感器、或互補金屬氧化物半導體(CMOS)傳感器。

14.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述第二電子檢測器件包括直接檢測器件(DDD)，所述直接檢測器件用以產生所述多個次級電子束的所述一個或多個束斑點的所述一個或多個圖像。

15.一種使用帶電粒子束系統(tǒng)檢查晶片的方法，所述帶電粒子束系統(tǒng)具有次級投影系統(tǒng)，所述次級投影系統(tǒng)用以將多個次級電子束投影到第一電子檢測器件的檢測表面上，所述方法包括：

使用第二電子檢測器件生成所述多個次級電子束的一個或多個束斑點的一個或多個圖像；并且

基于所述多個次級電子束的所述一個或多個束斑點的所述一個或多個圖像，確定與所述第一電子檢測器件相關聯(lián)的對準特性。