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[發(fā)明專利]液晶化合物取向?qū)愚D(zhuǎn)印用薄膜有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201980064152.9 申請日: 2019-10-21
公開(公告)號: CN112771422B 公開(公告)日: 2023-10-24
發(fā)明(設(shè)計)人: 佐佐木靖;村田浩一 申請(專利權(quán))人: 東洋紡株式會社
主分類號: G02B5/30 分類號: G02B5/30;B32B7/023;B32B27/28;B29C48/08
代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 代理人: 劉新宇;李茂家
地址: 日本*** 國省代碼: 暫無信息
權(quán)利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 液晶 化合物 取向 層轉(zhuǎn)印用 薄膜
【說明書】:

提供:為用于轉(zhuǎn)印液晶化合物取向?qū)拥睦w維素系轉(zhuǎn)印用薄膜,且該轉(zhuǎn)印用薄膜能形成減少了針孔等壞點的發(fā)生的相位差層、偏光層(液晶化合物取向?qū)?。一種液晶化合物取向?qū)愚D(zhuǎn)印用薄膜,其特征在于,其為用于將液晶化合物取向?qū)愚D(zhuǎn)印至對象物的纖維素系薄膜,薄膜的脫模面的表面粗糙度(SRa)為1nm以上且30nm以下。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于轉(zhuǎn)印液晶化合物取向?qū)拥霓D(zhuǎn)印用薄膜。更詳細(xì)而言,涉及:在制造層疊有由液晶化合物取向?qū)有纬傻南辔徊顚拥膱A偏光板等偏光板、相位差板時、制造具有由液晶化合物取向?qū)有纬傻钠鈱拥钠獍鍟r等能夠使用的、用于轉(zhuǎn)印液晶化合物取向?qū)拥霓D(zhuǎn)印用薄膜。

背景技術(shù)

以往,圖像顯示裝置中,為了降低外來光的反射,在圖像顯示面板的觀看者側(cè)的面板面配置圓偏光板。該圓偏光板由直線偏光板與λ/4等相位差薄膜的層疊體構(gòu)成,通過直線偏光板將面向圖像顯示面板的面板面的外來光轉(zhuǎn)換為直線偏振光,然后,通過λ/4等相位差薄膜轉(zhuǎn)換為圓偏振光。基于圓偏振光的外來光在圖像顯示面板的表面進(jìn)行反射時偏光面的旋轉(zhuǎn)方向倒轉(zhuǎn),該反射光相反地通過λ/4等相位差薄膜轉(zhuǎn)換為由直線偏光板遮光的方向的直線偏振光,之后通過直線偏光板遮光,因此,可抑制對外部的出射。如此,圓偏光板使用的是,在偏光板上貼合有λ/4等相位差薄膜者。

作為相位差薄膜,使用有環(huán)狀烯烴(參照專利文獻(xiàn)1)、聚碳酸酯(參照專利文獻(xiàn)2)、三乙酰纖維素的拉伸薄膜(參照專利文獻(xiàn)3)等單獨的相位差薄膜。另外,作為相位差薄膜,使用有在透明薄膜上具有由液晶化合物形成的相位差層的層疊體的相位差薄膜(參照專利文獻(xiàn)4、5)。記載了上述中在設(shè)置由液晶化合物形成的相位差層(液晶化合物取向?qū)?時,可以將液晶化合物轉(zhuǎn)印。

另外,專利文獻(xiàn)6等中已知通過將由液晶化合物形成的相位差層轉(zhuǎn)印至透明薄膜而制成相位差薄膜的方法。通過這種轉(zhuǎn)印法,還已知在透明薄膜上設(shè)置由λ/4等的液晶化合物形成的相位差層而形成λ/4薄膜的方法(參照專利文獻(xiàn)7、8)。

這些轉(zhuǎn)印法中,作為轉(zhuǎn)印用的基材,介紹了各種基材,大量示例了聚酯、三乙酰纖維素、環(huán)狀聚烯烴等透明樹脂薄膜。其中,三乙酰纖維素等纖維素系薄膜由于無折射率各向異性,因此,可以以將相位差層設(shè)于薄膜基材的狀態(tài)檢查(評價)相位差層的狀態(tài)而優(yōu)選。

然而,使用三乙酰纖維素等纖維素系薄膜作為轉(zhuǎn)印用的薄膜基材而制造的相位差層層疊偏光板(圓偏光板)用于圖像顯示裝置的防反射用的情況下,有時產(chǎn)生針孔狀、刮痕狀的漏光,成為問題。

另外,還已知有如下方法:將層疊在轉(zhuǎn)印用薄膜上的包含液晶化合物和二色性色素的偏光層(液晶化合物取向?qū)?轉(zhuǎn)印至保護(hù)膜,從而制造偏光板,但該情況也與上述同樣地有時產(chǎn)生針孔狀、刮痕狀的漏光,成為問題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1:日本特開2012-56322號公報

專利文獻(xiàn)2:日本特開2004-144943號公報

專利文獻(xiàn)3:日本特開2004-46166號公報

專利文獻(xiàn)4:日本特開2006-243653號公報

專利文獻(xiàn)5:日本特開2001-4837號公報

專利文獻(xiàn)6:日本特開平4-57017號公報

專利文獻(xiàn)7:日本特開2014-071381號公報

專利文獻(xiàn)8:日本特開2017-146616號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

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該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東洋紡株式會社,未經(jīng)東洋紡株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服

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說明:

1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書;

2、支持發(fā)明專利 、實用新型專利、外觀設(shè)計專利(升級中);

3、專利數(shù)據(jù)每周兩次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、內(nèi)容包括專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖流程工藝圖技術(shù)構(gòu)造圖

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