[發明專利]用于控制將EUV靶材料引入EUV室的裝置和方法

在審

• 申請號: 201980063225.2
• 申請日: 2019-09-25
• 公開（公告）號: CN112772000A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: D·U·H·特雷斯;S·R·E·穆什;B·A·薩姆斯;A·梅迪納·奧斯加拉;T·W·德賴森
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種裝置，包括：

真空室；

光學元件，被定位在所述真空室內，所述光學元件具有在所述真空室內的主焦點；

靶材料分配器，被定位在所述真空室外部，用于將靶材料的流分配到所述真空室中的所述主焦點處的照射位點；以及

靶材料轉向器，被布置為選擇性地使靶材料的選定部分轉向，使得由所述靶材料分配器分配的所述靶材料的選定部分被轉向而不進入所述真空室。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述光學元件是集光鏡。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料分配器具有噴嘴，所述噴嘴用于將所述靶材料以所述噴嘴所釋放的液滴流的形式提供給所述照射位點。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器被布置為使所述流的一部分在如下位置處轉向：在所述流離開所述噴嘴的釋放點與所述流進入照射位點的進入點之間的位置。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器被布置為在與所述流的行進方向橫切的方向上排出氣體射流。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中所述氣體是氫氣。

7.根據權利要求5所述的裝置，其中所述射流是亞音速的。

8.根據權利要求5所述的裝置，其中所述射流是超音速的。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器包括偏轉器，所述偏轉器選擇性地可被定位在所述流的路徑中。

10.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器包括導電元件，所述導電元件選擇性地連接到電荷源，并且被布置為當連接到所述源時將電荷置于所述流中的液滴上。

11.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器包括等離子體，并且所述靶材料轉向器被布置為當所述流中的液滴穿過所述等離子體時，將電荷置于所述流中的液滴上。

12.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器包括激光器，所述激光器被布置為使所選定的液滴汽化。

13.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器包括激光器，所述激光器被布置為使所選定的液滴偏轉。

14.根據權利要求1所述的裝置，其中所述靶材料轉向器是所述靶材料分配器的一部分。

15.根據權利要求1所述的裝置，其中靶材料的所述流部分地是未聚結液滴的子流，并且其中所述靶材料轉向器被布置為選擇性地使所述子流中的靶材料的選定部分轉向。

16.一種裝置，包括：

容器，用于容納EUV靶材料；

噴嘴，與所述容器流體連通，用于沿著第一路徑分配所述靶材料；以及

靶材料轉向器，鄰近所述噴嘴布置，用以選擇性地使通過所述噴嘴分配的靶材料的選定部分轉向，使得所述靶材料的選定部分沿著第二路徑轉向。

17.根據權利要求16所述的裝置，其中所述靶材料沿著所述第一路徑以流形式行進，并且所述靶材料轉向器被布置為在與所述流的行進方向橫切的方向上排出氣體射流。

18.根據權利要求17所述的裝置，其中所述氣體是氫氣。

19.根據權利要求17所述的裝置，其中所述射流是亞音速的。

20.根據權利要求17所述的裝置，其中所述射流是超音速的。