[發明專利]從圖案化過程的圖案集合確定候選圖案的方法

在審

• 申請號: 201980062893.3
• 申請日: 2019-09-20
• 公開（公告）號: CN112740110A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: V·維拉恩基;M·C·西蒙
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種從圖案化過程的圖案集合確定候選圖案的方法，所述方法包括：

獲得(i)圖案化過程的圖案集合、(ii)具有第一特征和第二特征的搜索圖案、和(iii)包括介于所述搜索圖案的所述第一特征與所述第二特征之間的相對位置的第一搜索條件；和

經由處理器從所述圖案集合確定滿足與所述搜索圖案的所述第一特征和所述第二特征相關聯的所述第一搜索條件的候選圖案的第一集合。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述相對位置被限定在所述搜索圖案的所述第一特征的元件與所述第二特征的元件之間。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述元件包括相應特征的邊緣和/或頂點。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一搜索條件還包括與所述特征的元件之間的相對位置和/或所述特征的尺寸相關聯的公差極限。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一特征和所述第二特征位于相同層上。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一特征和所述第二特征位于不同層上。

7.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：

獲得圍繞所述搜索圖案的邊界框以及與所述邊界框和所述搜索圖案的特征相關聯的第二搜索條件；和

經由所述處理器，從所述候選圖案的第一集合確定滿足與所述邊界框相關聯的所述第二搜索條件的候選圖案的第二集合。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述第二搜索條件包括所述搜索圖案的特征的邊緣與所述邊界框的邊緣之間的相對位置，和/或

其中所述相對位置是所述搜索圖案的特征的邊緣與所述邊界框的邊緣之間的距離、和/或角度。

9.根據權利要求7所述的方法，其中所述第二搜索條件還包括與所述搜索圖案的特征的元件和所述邊界框之間的相對位置相關聯的公差極限。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述第二搜索條件與所述搜索圖案的最靠近于所述邊界框的特征相關聯。

11.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述候選圖案的第二集合還包括：

比較所述搜索圖案的特征的一個或更多個參數與所述圖案集合的特征的相對應的一個或更多個參數。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述一個或更多個參數包括以下中的至少一個：

所述特征的邊緣；

所述特征的大小；和

所述特征的形貌。

13.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述候選圖案的第二集合還包括：

基于所述第二搜索條件來調整圍繞所述搜索圖案的邊界框；和

從所述候選圖案的第一集合確定滿足與調整后的邊界框相關聯的所述第二搜索條件的所述候選圖案的第二集合。

14.根據權利要求13所述的方法，其中調整所述邊界框包括：

相對于所述圖案集合中的圖案的特征的大小的增加和/或減小以及所述第二搜索條件，增加和/或減小所述邊界框的大小。

15.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖案集合是設計圖案；和/或所印制的襯底的圖案的圖像；和/或所述襯底的模擬圖案。