[發明專利]可動部位置檢測方法、基板處理方法、基板處理裝置以及基板處理系統

有效

• 申請號: 201980056745.0
• 申請日: 2019-07-24
• 公開（公告）號: CN112639391B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 沖田有史;猶原英司;角間央章;增井達哉
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;H01L21/304
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產權代理有限公司 51258
• 代理人: 魏彥

差異運算部(92)計算基準圖像(80)中的各卡盤銷(26)的位置與對象圖像(82)中的各卡盤銷(26)的位置之間的差異。判定區域設定部(932)在對象圖像(82)中設定用于檢測噴嘴(30)的位置的判定區域(DR)。此時，判定區域設定部(932)根據作為標識部的各卡盤銷(26)之間的位置差異，對基準圖像(80)中設定的基準判定區域(SDR)的位置進行修正，從而在對象圖像(82)中設定判定區域(DR)。

技術領域

本發明涉及一種使用在基板處理裝置內移動的可動部對基板進行處理的技術，尤其涉及一種檢測可動部的位置的技術。成為處理對象的基板，例如包括半導體基板、液晶顯示裝置及有機EL(Electroluminescence：電致發光)顯示裝置等FPD(Flat Panel Display：平板顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板、印刷基板等。

背景技術

在半導體器件等的制造工序中，對基板供給純水、光阻液、蝕刻液等各種處理液來進行清洗處理或抗蝕劑涂布處理等基板處理。作為使用這些處理液進行液體處理的裝置，有時使用一邊使基板旋轉一邊從噴嘴向該基板的表面噴出處理液的基板處理裝置。

在對基板執行處理的處理單元中，有時使用移動至既定的位置來進行處理的可動部。作為這樣的可動部，包括在既定的處理位置上向基板噴出處理液或空氣等的噴嘴以及與基板的既定的位置接觸來進行物理清洗等處理的刷子等。為了提高基板的處理精度并實現均勻化，優選提高配置可動部的位置的精度。

為了判定可動部的位置是否適當，有時對處理空間內進行拍攝。在該情況下，通過圖像處理來進行可動部的位置檢測，由此判定可動部的位置是否適當。但是，也可能存在進行這樣的拍攝的相機等拍攝元件自身的設置位置發生偏離的情況，因此提出有用于應對這種情況的技術(例如，專利文獻1)。

在專利文獻1中，在一個腔室內，利用檢測多個對準標記(基準部位)與可動部的圖像處理，從通過拍攝而獲得的原圖像中獲取它們的位置信息。記載有根據這些位置信息來確定處理空間內的可動部的位置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2016-70693號公報

發明內容

發明要解決的問題

通常的基板處理裝置有時具有多個對基板進行相同處理的腔室。在該情況下，在腔室之間相機的設置狀態未必一致。因此，需要對每個腔室進行用于高精度地檢測可動部的位置的預先設定。

因此，本發明的目的在于，提供一種在各腔室內高效地進行用于檢測可動部的位置的預先設定的技術。

用于解決問題的手段

為了解決上述課題，第一形態為一種可動部位置檢測方法，檢測在腔室內的處理空間中移動的可動部的位置，包括：工序(a)，通過用第一相機拍攝配置在第一腔室內的第一可動部及第一標識部，獲取第一圖像；工序(b)，通過用第二相機拍攝配置在第二腔室內的第二可動部及第二標識部，獲取第二圖像；工序(c)，計算出所述第一圖像中的所述第一標識部的位置與所述第二圖像中的所述第二標識部的位置之間的位置差異；以及工序(d)，根據所述第一圖像中的所述第一可動部的位置以及所述位置差異，在所述第二圖像中設定用于檢測所述第二可動部的位置的判定區域。

第二形態為，在第一形態的可動部位置檢測方法中，所述第一標識部分散地設置在所述第一腔室的多個部位。

第三形態為，在第一形態或第二形態的可動部位置檢測方法中，所述第一標識部是以水平姿勢保持基板的基板保持部。