[發明專利]最佳量測指導的系統和方法

在審

• 申請號: 201980056714.5
• 申請日: 2019-08-19
• 公開（公告）號: CN112689802A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 浦凌凌;方偉;趙楠;周文天;王騰;徐明
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/86
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;胡良均

1.一種量測系統，包括：

存儲器，存儲指令集；以及

處理器，被配置為執行所述指令集以引起所述量測系統：

接收樣本的獲取的圖像；

基于對所述獲取的圖像的分析確定圖像參數集；

基于所述圖像參數集確定模型參數集；

基于所述模型參數集生成模擬圖像集；以及

基于對所述模擬圖像集和所述模型參數集的分析輸出指導參數集。

2.根據權利要求1所述的系統，還包括：被配置為獲取所述樣本的圖像的帶電粒子束裝置。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述模擬圖像集僅包括單個模擬圖像。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述分析包括：來自所述模擬圖像集和所述模型參數集的信息的對比。

5.根據權利要求4所述的系統，其中來自所述模擬圖像集的所述信息包括臨界尺寸測量結果。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述圖像參數集、所述模型參數集或所述指導參數集中的至少一項包括單個參數。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述圖像參數集包括噪聲水平、感興趣圖案、線條粗糙度或邊緣輪廓中的任一項。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述模型參數集是基于質量度量自所述圖像參數集被確定的。

9.根據權利要求8所述的系統，其中所述模型參數集自所述圖像參數集被確定是基于多個質量度量。

10.根據權利要求9所述的系統，其中所述多個質量度量包括局部噪聲水平、全局噪聲水平、邊緣輪廓統計信息或圖案結構中的任一項。

11.根據權利要求1所述的系統，其中所述指導參數集包括推薦的成像參數、臨界尺寸均勻性參數、測量精度、可重復性或測量準確性中的任一項。

12.根據權利要求1所述的系統，其中所述處理器被配置為執行所述指令集以進一步引起所述量測系統：

接收與目標參數相關聯的輔助信息；以及

基于所接收的輔助信息分析所述獲取的圖像。

13.根據權利要求12所述的系統，其中所述目標參數包括目標節距、目標臨界尺寸均勻性、目標圖案或目標測量精度中的任一項。

14.根據權利要求1所述的系統，其中所述處理器被配置為執行所述指令集以進一步引起所述量測系統：

對所述模擬圖像集執行臨界尺寸的測量以獲取臨界尺寸測量；以及

將所述臨界尺寸測量與所述模型參數集進行對比。

15.一種非暫態計算機可讀介質，包括指令集，所述指令集由裝置的一個或多個處理器可執行以引起所述裝置執行方法，所述方法包括：

接收樣本的獲取的圖像；

基于對所述獲取的圖像的分析確定圖像參數集；

基于所述圖像參數集確定模型參數集；

基于所述模型參數集生成模擬圖像集；以及

基于對所述模擬圖像集和所述模型參數集的分析提供指導參數集。