[發明專利]用于對準透光雙折射工件的系統和方法

在審

• 申請號: 201980055967.0
• 申請日: 2019-08-23
• 公開（公告）號: CN112655081A
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發明（設計）人: 尼爾·巴瑟姆
• 申請（專利權）人: 艾克塞利斯科技公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;G01N21/95
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張琳

1.一種工件對準系統，包括：

光發射裝置，被配置成沿著路徑將一個或多個波長的光束引導至和工件相關聯的工件平面的第一側，且其中，所述路徑和所述工件的周圍區相關聯；

第一偏光裝置，被設置在所述光發射裝置與所述工件平面之間；

光接收裝置，被定位成沿著所述第一路徑，并且被配置成接收所述工件平面的第二側上的所述光束，其中，所述第二側和所述第一側反向；

第二偏光裝置，被設置在所述工件平面與所述光接收裝置之間；

工件支撐架，被配置成沿著所述工件平面選擇性支撐所述工件；

旋轉設備，被操作地耦接至所述工件支撐架，并且被配置成繞著支撐軸選擇性旋轉所述工件支撐架；以及

控制器，被配置成以當所述工件和所述路徑交叉時，基于穿過所述工件而被所述光接收裝置接收的光束量來決定所述工件的位置，其中，所述控制器進一步被配置成決定，當所述工件通過所述工件支撐架被支撐與旋轉時，相對于所述支撐軸的所述工件的位置，其中，所述工件的所述位置的所述決定至少部分基于所述工件支撐架的旋轉位置，以及和所述工件支撐架的所述旋轉位置相關聯的被所述光接收裝置接收的所述光束的至少一部分。

2.根據權利要求1所述的工件對準系統，其中，所述第一偏光裝置包括第一圓形偏光濾鏡，且其中，所述第二偏光裝置包括第二圓形偏光濾鏡。

3.根據權利要求2所述的工件對準系統，其中，所述第一圓形偏光濾鏡包括第一線性偏光濾鏡和第一四分之一波片，其中，所述第一線性偏光濾鏡被定位在所述第一四分之一波片的+45度處，且其中，所述第一線性偏光濾鏡被定位成比所述第一四分之一波片更接近所述光發射裝置。

4.根據權利要求3所述的工件對準系統，其中，所述第二圓形偏光濾鏡包括第二線性偏光濾鏡和第二四分之一波片，其中，所述第二線性偏光濾鏡被定位在所述第二四分之一波片的+45度處，且其中，所述第二線性偏光濾鏡被定位成比所述第二四分之一波片更接近所述光接收裝置。

5.根據權利要求3所述的工件對準系統，其中，所述第二圓形偏光鏡包括補償器。

6.根據權利要求5所述的工件對準系統，其中，所述補償器包括第二線性偏光濾鏡和第二四分之一波片，其中，所述第二線性偏光濾鏡被定位在所述第二四分之一波片的+45度處，且其中，所述第二線性偏光濾鏡被定位成比所述第二四分之一波片更接近所述光接收裝置，且其中，所述第二線性偏光濾鏡被配置成基于所述補償器的輸入在正交電場分量之間提供可變相位變化。

7.根據權利要求2所述的工件對準系統，其中，所述第二圓形偏光鏡包括補償器，且其中，所述控制器進一步被配置成基于所述補償器的輸入在正交電場分量之間提供可變相位變化。

8.根據權利要求7所述的工件對準系統，其中，所述工件包括雙折射工件，且其中，所述控制器進一步被配置成選擇性控制所述補償器的電壓輸入，從而控制所述第二線性偏光濾鏡的所述相位變化。

9.根據權利要求3所述的工件對準系統，其中，所述控制器被配置成選擇性控制所述補償器的所述電壓輸入，由此所述第二線性偏光濾鏡的所述相位變化受到控制，以便最大化所述光接收裝置接收到的所述光束的所述至少一部分相關聯的最大信號與最小信號的比值。

10.根據權利要求1所述的工件對準系統，其中，所述光發射裝置是激光器，所述激光器被配置成傳送所述一個或多個波長的所述光束。

11.根據權利要求1所述的工件對準系統，其中，所述光發射裝置被配置成傳送在預設寬度上的所述一個或多個波長的所述光束。

12.根據權利要求1所述的工件對準系統，其中，所述工件的所述位置包括從所述支撐軸沿著所述工件平面所述工件的中心的二維偏移。