[發(fā)明專利]X射線裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980054925.5
• 申請日: 2019-06-25
• 公開（公告）號: CN112602381A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 浦田朋晃
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: H05G1/26
• 分類號: H05G1/26;A61B6/00;H05G1/34
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種X射線裝置，其特征在于，具備：

X射線產(chǎn)生部，其具有發(fā)射器、靶以及外殼，其中，所述發(fā)射器由導(dǎo)電體構(gòu)成，用于發(fā)射電子，所述靶由于從所述發(fā)射器發(fā)射出的電子與所述靶碰撞而產(chǎn)生X射線，所述外殼用于收納所述發(fā)射器和所述靶；

消耗程度檢測部，其檢測所述發(fā)射器的消耗程度；

存儲部，其存儲所述發(fā)射器的消耗程度與構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量的關(guān)系；以及

附著量估計部，其基于所述發(fā)射器的消耗程度、以及存儲在所述存儲部中的所述發(fā)射器的消耗程度與構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量的關(guān)系，來估計構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線裝置，其特征在于，

所述消耗程度檢測部根據(jù)對所述發(fā)射器施加的電壓、電流或通電時間來檢測所述發(fā)射器的消耗程度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線裝置，其特征在于，

還具備溫度傳感器，

所述附著量估計部利用由所述溫度傳感器檢測出的所述X射線產(chǎn)生部的溫度或所述X射線產(chǎn)生部內(nèi)的絕緣油的溫度，來估計構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線裝置，其特征在于，

還具備姿勢傳感器，所述姿勢傳感器檢測所述X射線產(chǎn)生部的姿勢，

所述附著量估計部利用由所述姿勢傳感器檢測出的所述X射線產(chǎn)生部的姿勢，來估計構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線裝置，其特征在于，

所述存儲部還存儲構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與發(fā)生針對所述外殼的沿面放電的概率的關(guān)系，

所述X射線裝置還具備沿面放電估計部，所述沿面放電估計部基于所述發(fā)射器的消耗程度、存儲在所述存儲部中的所述發(fā)射器的消耗程度與構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量的關(guān)系、以及存儲在所述存儲部中的構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與針對所述外殼的沿面放電的概率的關(guān)系，來估計發(fā)生沿面放電的概率。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線裝置，其特征在于，

在由所述沿面放電估計部估計出的發(fā)生沿面放電的概率超過了預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值時，執(zhí)行警告顯示。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線裝置，其特征在于，

所述存儲部還存儲構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與穿過所述外殼的X射線的透過率的關(guān)系、或者構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與穿過所述外殼的X射線的譜的關(guān)系，

所述X射線裝置還具備圖像處理部，所述圖像處理部基于構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量、以及存儲在所述存儲部中的構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與穿過所述外殼的X射線的透過率的關(guān)系，或者基于構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量、以及存儲在所述存儲部中的構(gòu)成所述發(fā)射器的導(dǎo)電體附著于所述外殼的附著量與穿過所述外殼的X射線的譜的關(guān)系，來變更顯示部中顯示的X射線圖像的圖像處理條件。