[發(fā)明專利]光測距裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980053271.4
• 申請日: 2019-08-02
• 公開（公告）號: CN112567260A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發(fā)明（設計）人: 尾崎憲幸;清野光宏;木村禎祐;柏田真司
• 申請（專利權）人: 株式會社電裝
• 主分類號: G01S7/484
• 分類號: G01S7/484;G01C3/06;G01S17/894;G01S17/08
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 舒艷君;王海奇

本發(fā)明涉及光測距裝置。光測距裝置(10)具備：光源部(20)，對測定范圍照射照射光；受光部(30)，具有受光面(32)，上述受光面(32)具有能夠接受與照射光的照射對應的來自包含測定范圍的范圍的反射光的多個受光要素，上述受光部(30)按每個受光要素輸出與反射光的受光狀態(tài)對應的信號；以及測定部(40)，使用從受光部輸出的信號來測定到測定范圍中的物體的距離。而且，受光部具有通過選擇輸出信號的受光要素來使接受反射光的受光位置可變的功能，并針對反射光的位置，將受光位置向多個位置變更。

相關申請的交叉引用

本申請基于在2018年8月9日申請的日本申請?zhí)?018-150303號，并在此處引用其記載內容。

技術領域

本公開涉及光測距裝置。

背景技術

關于光測距裝置，例如在專利文獻1所記載的雷達裝置中，在呈二維矩陣狀排列有多個像素的受光面中檢測從光源照射的激光的反射光。由激光照射的激光的照射面形成為矩形，反射光照射到受光面的范圍也成為矩形。在該裝置中，通過在受光面中禁止受光范圍外的像素的動作來抑制由光的誤檢測導致的影響。

專利文獻1：日本特開2015-78953號公報

專利文獻2：日本特開2004-157044號公報

專利文獻3：日本特開平7-191148號公報

在這樣的光測距裝置中，由于光測距裝置所使用的透鏡、支架、粘著劑等的溫度特性，根據(jù)周邊溫度，反射光相對于受光面的受光位置有可能變動。這樣，無法在受光范圍內適當?shù)亟邮芊瓷涔猓瑴y距性能有可能降低。

發(fā)明內容

本公開能夠作為以下的方式來實現(xiàn)。

根據(jù)本公開的一個方式，提供一種光測距裝置。該光測距裝置具備：光源部，對測定范圍照射照射光；受光部，具有受光面，上述受光面具有能夠接受與上述照射光的照射對應的來自包括上述測定范圍的范圍的反射光的多個受光要素，上述受光部按每個上述受光要素輸出與上述反射光的受光狀態(tài)對應的信號；以及測定部，使用從上述受光部輸出的上述信號來測定到上述測定范圍中的物體的距離。而且，上述受光部具有通過選擇輸出上述信號的受光要素而使接受上述反射光的受光位置可變的功能，針對上述反射光的位置，將上述受光位置向多個位置變更。

根據(jù)該方式的光測距裝置，由于將受光部中的反射光的受光位置向多個位置變更，因此能夠適當?shù)亟邮芊瓷涔獾目赡苄蕴岣摺Ｒ虼耍诜瓷涔庀鄬τ谑芄饷娴氖芄馕恢酶鶕?jù)周邊溫度而變動的情況下，能夠減少測距性能降低的可能性。

另外，根據(jù)本公開的另一方式，提供一種光測距裝置。該光測距裝置具備：受光部，具有受光面，上述受光面具有能夠接受來自測定范圍的反射光的多個受光要素，上述受光部按每個上述受光要素輸出與上述反射光的受光狀態(tài)對應的信號；光源部，使照射照射光的方位變更并對上述測定范圍照射上述照射光，使得上述反射光在上述受光面上移動；以及測定部，使用從上述受光部輸出的上述信號來測定到上述測定范圍中的物體的距離。而且，上述受光部使受光位置朝向預先決定的方向移動并進行上述反射光的接受，該受光位置是接受上述反射光的受光要素的位置，上述光源部針對進行上述反射光的接受的一個上述受光位置，將照射上述照射光的方位向多個方位變更。

根據(jù)該方式的光測距裝置，由于針對進行反射光的接受的一個受光位置，將照射照射光的方位向多個方位變更，因此能夠適當?shù)亟邮芊瓷涔獾目赡苄蕴岣摺Ｒ虼耍诜瓷涔庀鄬τ谑芄饷娴氖芄馕恢酶鶕?jù)周邊溫度而變動的情況下，能夠減少測距性能降低的可能性。

本公開也能夠通過光測距裝置以外的各種方式來實現(xiàn)。例如，能夠通過光測距方法、搭載光測距裝置的車輛、控制光測距裝置的控制方法等方式來實現(xiàn)。

附圖說明

參照附圖并通過下述的詳細描述，關于本公開的上述目的以及其它目的、特征、優(yōu)點變得更加明確。其附圖是：