[發(fā)明專(zhuān)利]靜電卡盤(pán)及靜電卡盤(pán)的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980052004.5
• 申請(qǐng)日: 2019-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112534565A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小野浩司
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京瓷株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/683
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/683;H02N13/00
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳克鵬

本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)(1)具備板狀的陶瓷基體(2)和靜電吸附用電極(3)。上述陶瓷基體(2)包含主成分為氧化鋁的多個(gè)粒子。該多個(gè)粒子包含具有鎂原子和鋯原子的粒子。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及靜電卡盤(pán)及靜電卡盤(pán)的制造方法。

背景技術(shù)

作為靜電卡盤(pán)，已知有例如PVD裝置或CVD裝置等成膜裝置或曝光裝置等所使用的靜電卡盤(pán)。另外，例如已知有日本特開(kāi)2008-251737號(hào)公報(bào)(以下，也稱(chēng)為專(zhuān)利文獻(xiàn)1)中記載的靜電卡盤(pán)。以往，在PVD裝置、CVD裝置或離子鍍裝置等成膜裝置、曝光裝置或蝕刻裝置等中，為了高精度地固定硅晶片等被加工物，而使被加工物吸附于被精加工成平坦且平滑的板狀體的表面。作為該吸附手段，使用利用靜電吸附力的靜電卡盤(pán)。

該靜電卡盤(pán)在包含陶瓷的板狀的基體的一個(gè)主面(一個(gè)最寬的面)具有試樣保持面。靜電卡盤(pán)在基體的內(nèi)部或另一個(gè)主面(另一個(gè)最寬的面)具備靜電吸附用電極。關(guān)于靜電卡盤(pán)，對(duì)靜電吸附用電極施加DC電壓，從而在與被加工物之間顯現(xiàn)由介電極化產(chǎn)生的庫(kù)侖力、或者由微小的漏電流產(chǎn)生的約翰遜·拉別克力等靜電吸附力。靜電卡盤(pán)能夠使被加工物吸附固定于試樣保持面。

需要說(shuō)明的是，在靜電卡盤(pán)上，按照從與被加工物的周邊部對(duì)應(yīng)的試樣保持面的周邊部自如突出的方式，設(shè)置有用于使被加工物從試樣保持面脫離的升降銷(xiāo)。

發(fā)明內(nèi)容

本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)具備陶瓷基體和靜電吸附用電極，上述陶瓷基體為板狀，在一個(gè)主面具有試樣保持面，上述靜電吸附用電極設(shè)置于該陶瓷基體的內(nèi)部或另一個(gè)主面，上述陶瓷基體包含主成分為氧化鋁的多個(gè)粒子，該多個(gè)粒子包含具有鎂原子和鋯原子的粒子。

附圖說(shuō)明

圖1是本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)的俯視圖。

圖2是本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)和被加工物的縱截面圖。

圖3是表示圖1所示的陶瓷基體中的具有鎂原子、鋯原子的氧化鋁粒子的存在形態(tài)以及該粒子內(nèi)的上述原子的存在區(qū)域的圖。

圖4是表示本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)的另一例的縱截面圖。

具體實(shí)施方式

以下，使用附圖對(duì)本公開(kāi)的靜電卡盤(pán)1的例子進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

圖1和圖2所示的靜電卡盤(pán)1具備陶瓷基體2和靜電吸附用電極3。具體而言，陶瓷基體2也可以形成為具有與硅晶片等被加工物A相同程度的大小的圓板狀，且在該陶瓷基體2的內(nèi)部埋設(shè)有靜電吸附用電極3。

并且，如圖1所示，也可以在陶瓷基體2的一個(gè)主面設(shè)置多個(gè)凸部6，凸部6各自的突端具有平滑的面，構(gòu)成試樣保持面。需要說(shuō)明的是，凸部6的數(shù)量不限于圖中示出的圖案的數(shù)量。

靜電吸附用電極3與導(dǎo)線8連接，靜電吸附用電極3可以介由導(dǎo)線8與直流電源9連接。另一方面，吸附于試樣保持面的被加工物A也可以與接地(日文：アース)直接或利用等離子體進(jìn)行電連接。由此，能夠在靜電吸附用電極3與被加工物A之間顯現(xiàn)靜電吸附力。其結(jié)果是，能夠?qū)⒈患庸の顰吸附固定。

在陶瓷基體2的中央部可以設(shè)置從另一個(gè)主面(圖的下表面)貫通至一個(gè)主面(圖的上表面)的氣體導(dǎo)入孔7。另外，凸部6與凸部6之間成為氣體流路5，該氣體流路5與氣體導(dǎo)入孔7可以連通。

在將加工物A吸附于試樣保持面時(shí)，能夠從氣體導(dǎo)入孔7向由被加工物和氣體流路5構(gòu)成的空間供給氦氣等冷卻氣體。由此，能夠提高試樣保持面與被加工物A之間的熱傳遞性，均勻地控制被加工物的溫度分布。

需要說(shuō)明的是，如圖1所示，靜電卡盤(pán)1可以沿著陶瓷基體2的一個(gè)主面的外周形成有周壁4，而使凸部6、被加工物A和氣體流路5所成的空間成為封閉的空間。由此，能夠防止從氣體導(dǎo)入孔7供給的冷卻氣體大量泄漏到外部。該周壁4可以根據(jù)目的設(shè)置，也可以不設(shè)置。另外，周壁4可以與陶瓷基體2一體地形成，也可以分體地形成。