[發明專利]液壓成形冷卻裝置的彎曲方法和彎曲的液壓成形冷卻裝置

在審

• 申請號: 201980051628.5
• 申請日: 2019-07-18
• 公開（公告）號: CN112534355A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: F.卡拉;J.澤特謝爾
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B21D9/15;B21D26/00;F28D15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種用于微光刻投射曝光設備的冷卻裝置的彎曲方法，具有以下步驟：

-提供特別地未彎曲的冷卻裝置(100)，其包括至少一個腔體(108)；

-至少在所述冷卻裝置(100)的待彎曲區域中用液態低溫介質(110)填充所述至少一個腔體(108)；

-使所述冷卻裝置(100)冷卻，使得在所述腔體(108)中存在的所述介質(110)冷卻至低于其熔化溫度，并且從而至少部分地固化；

-彎曲所述冷卻裝置(100)，使得至少部分固化的介質(110)防止所述腔體(108)在彎曲期間封閉。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述至少一個腔體(108)通過液壓成形來產生。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在所述彎曲期間維持小于近似100mm，優選地小于近似50mm的彎曲半徑(114)。

4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述介質(110)包括水和至少一個活性成分的混合物和/或至少一個活性成分在水中的溶液，所述活性成分包括至少一種表面活性劑，特別是仲醇乙氧基化物，和/或至少一種鹽，特別是磷酸鉀、硅酸鈉或鈉鹽。

5.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述冷卻裝置(100)的冷卻通過浸入液化氣體中，特別是液氮中來執行。

6.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，在所述彎曲步驟之后，將填充有所述至少部分固化的介質(110)的所述冷卻裝置(100)加熱，使得所述介質(110)再次被液化，并且至少幾乎完全從所述至少一個腔體(108)中移除所液化的介質(110)，而沒有任何留下。

7.一種彎曲的冷卻裝置(100)，通過權利要求6所述的方法制造，包括至少一個腔體(108)。

8.根據權利要求7所述的冷卻裝置，其中，所述冷卻裝置(100)包括彼此連接的兩個或更多個腔體(108)。

9.根據權利要求7或8所述的冷卻裝置，其中，所述至少一個腔體(108)由彼此焊接的兩個片形成，特別地由較薄的片(102)和較厚的片(104)形成。

10.根據權利要求9所述的冷卻裝置，其中，所述片中的一個，特別是較厚的片(104)的面向所述微光刻投射曝光設備中的束路徑的一側包括凸紋(112)。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的冷卻裝置，其中，所述彎曲半徑(114)小于近似100mm，優選地小于近似50mm。

12.根據權利要求7至11中任一項所述的冷卻裝置，其中，所述冷卻裝置(100)布置為用于冷卻和/或熱屏蔽所述微光刻投射曝光設備(300、400)中的束路徑中和/或周圍的部件。

13.一種用于DUV范圍(400)或用于EUV范圍(300)的微光刻投射曝光設備，包括至少一個根據權利要求7至12中任一項所述的彎曲的，特別地液壓成形的冷卻裝置(100)。