[發明專利]用于修改支撐表面的工具

在審

• 申請號: 201980049963.1
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號: CN112534354A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: B·D·肖爾滕;P·A·M·比勒肯斯;關天男;T·林德伊杰;H·A·梅哈格諾爾;J·M·W·范德溫克爾;C·J·P·M·范努南;H·T·J·F·范弗塞維爾德;M·M·P·A·韋爾默朗
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B24B37/14;B24B37/12;B24B37/16;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;胡良均

一種用于修改襯底保持器(20)的襯底支撐元件(21)的工具(1)，所述襯底支撐元件具有用于支撐襯底的支撐表面(22)，所述工具包括具有主體表面(3)的主體(2)，其中所述工具包括自所述主體表面的多個突起部(4)，所述多個突起部具有被配置成接觸所述支撐表面并且修改所述襯底支撐元件的遠端(5)。此外，公開了一種光刻設備和包括這種工具的方法。

技術領域

本申請要求歐洲申請18185938.0的優先權，該案在2018年7月27日提交且其整體內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明涉及用于修改保持器的工具、用于使用該工具修改保持器的方法以及包括該工具的光刻設備。

背景技術

光刻設備是將期望的圖案施加到襯底上(通常施加到襯底的目標部分上)的機器。例如，光刻設備可以被用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，圖案形成裝置(備選地被稱為掩模或中間掩模)可以被用于生成將被形成在IC的各個層上的電路圖案。該圖案可以被轉印到襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如，包括一個或多個裸片的一部分)上。圖案的轉印通常經由成像到被設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。一般地，單個襯底將包含被連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。常規的光刻設備包括所謂的步進器，其中通過將整個圖案一次性曝光到目標部分上來輻照每個目標部分；以及所謂的掃描儀，其中通過在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案同時平行或反平行于該方向同步掃描襯底來輻照每個目標部分。也可以通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底。

持續需要制造具有更小特征的裝置，例如集成電路。集成電路和其他微型裝置通常使用光學光刻術來制造，但是其他制造技術(諸如壓印光刻、電子束光刻和納米自組裝)是已知的。

在制造期間，裝置被輻照。確保輻照過程盡可能準確是重要的。使輻照過程盡可能準確的問題之一是確保要輻照的裝置處于正確的位置。為了控制裝置的位置，可以使用襯底保持器。一般地，在襯底被輻照的同時，襯底將由襯底保持器支撐。當襯底被定位在襯底保持器上時，襯底與襯底保持器之間的摩擦可以防止襯底在襯底保持器的表面上方變平。為了解決該問題，襯底保持器可以被設置有支撐元件，這些支撐元件使襯底與襯底保持器之間的接觸面積最小化。在其他情況下，襯底保持器的表面上的支撐元件可以被稱為凸節或突出部。支撐元件一般被規則地間隔開(例如以均勻的陣列)并且具有均勻的高度，并且限定了非常平坦的整體支撐表面，襯底可以被定位在該支撐表面上。支撐元件減小了襯底保持器與襯底之間的接觸面積，從而減小了摩擦，并允許襯底移動至襯底保持器上的較平坦位置。

支撐元件一般從襯底保持器的表面大體垂直地延伸。在操作中，襯底的背面被支撐在支撐元件上的與襯底保持器的主體表面相距一小段距離處、基本上垂直于投影束的傳播方向的位置中。因此，支撐元件的頂部(即支撐表面)而不是襯底保持器的主體表面3限定了襯底的有效支撐表面。

為了避免在將圖案化的輻射束投影在襯底上期間的重疊誤差，期望襯底頂部表面是平坦的。襯底支撐件的支撐表面的不平整可能導致襯底的頂部表面不均勻。因此，期望避免襯底支撐件的不均勻。

支撐表面的不平整可能由構成支撐元件本身的材料的高度之間的差異引起。當制造了新的襯底保持器時，通常就是這種情況。磨損也可能導致不均勻。在已知的實施例中，襯底支撐件包含襯底臺WT(在其他情況下，指的是卡盤)，具有支撐元件的襯底保持器被支撐在該襯底臺上。在備選實施例中，襯底臺WT和襯底保持器可以被集成在單個單元中。不均勻可能是支撐元件的高度之間或在襯底保持器的背面中或在襯底臺WT中的差異的結果。因此，小心地使這些元件齊平。然而，已經發現，當組裝或安裝襯底臺WT和襯底保持器(以及任何其他元件)時，也可能導致不平整。針對其他物品的支撐臺或保持器，也可能遇到類似的問題，這些物品必須被支撐在跨束路徑的良好限定的平面中，諸如反射圖案形成裝置或透射圖案形成裝置。