[發(fā)明專利]用于修改支撐表面的工具

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980049963.1
• 申請(qǐng)日: 2019-06-27
• 公開（公告）號(hào): CN112534354A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: B·D·肖爾滕;P·A·M·比勒肯斯;關(guān)天男;T·林德伊杰;H·A·梅哈格諾爾;J·M·W·范德溫克爾;C·J·P·M·范努南;H·T·J·F·范弗塞維爾德;M·M·P·A·韋爾默朗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;B24B37/14;B24B37/12;B24B37/16;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 王茂華;胡良均

1.一種用于修改襯底保持器的襯底支撐元件的工具，所述襯底支撐元件具有用于支撐襯底的支撐表面，所述工具包括具有主體表面的主體，其中所述工具包括自所述主體表面的多個(gè)突出部，所述多個(gè)突出部具有被配置成接觸所述支撐表面以修改所述襯底支撐元件的遠(yuǎn)端。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工具，其中相鄰?fù)怀霾恐g的節(jié)距大于或等于大約5mm，或優(yōu)選地大于或等于大約7mm，或更優(yōu)選地大于或等于大約12mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的工具，其中所述多個(gè)突出部中的至少一個(gè)突出部具有大于或等于大約9mm²或更優(yōu)選地大于或等于大約20mm²的截面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工具，其中所述多個(gè)突出部中的至少一個(gè)突出部的所述遠(yuǎn)端包括多個(gè)突起部，其中所述多個(gè)突起部中的相鄰?fù)黄鸩恐g的距離在大約50nm至1mm之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工具，其中所述多個(gè)突起部從所述遠(yuǎn)端延伸大約50nm至1mm之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工具，其中所述多個(gè)突出部中的相鄰?fù)怀霾恐g的距離在大約50nm至1mm之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的工具，其中所述遠(yuǎn)端與所述主體表面3之間的距離在大約50nm至1mm之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或6所述的工具，其中所述主體是板狀的。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工具，其中所述主體的直徑小于或等于大約50mm，或優(yōu)選地小于或等于大約35mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或6所述的工具，其中所述工具不包括通孔。

11.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或6所述的工具，其中所述主體表面基本上平坦。

12.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或6所述的工具，其中所述工具包括滲硅碳化硅、碳化硅、氧化鋁和/或類金剛石碳。

13.一種用于修改襯底保持器的襯底支撐元件的方法，所述襯底支撐元件具有用于支撐襯底的支撐表面，所述方法包括：

提供根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的工具；

使所述支撐表面中的至少一些支撐表面與所述工具的所述突出部的所述遠(yuǎn)端接觸，并使用所述工具來修改所述支撐表面。

14.一種光刻設(shè)備，包括：

襯底保持器，具有多個(gè)支撐元件，所述多個(gè)支撐元件被配置成支撐襯底；

材料去除裝置，被配置成修改所述襯底保持器的所述襯底支撐元件，所述材料去除裝置具有根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的用于修改所述襯底保持器的所述襯底支撐元件的工具。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光刻設(shè)備，還包括：

檢測器，被配置成檢測所述支撐元件中的影響被支撐在所述襯底保持器上的所述襯底的表面平坦度的一個(gè)或多個(gè)支撐元件的高度偏差，其中所述工具被配置成修改與所述支撐元件的所檢測的高度偏差相對(duì)應(yīng)的所述一個(gè)或多個(gè)支撐元件的高度。

16.一種用于修改襯底保持器的襯底支撐元件的方法，所述襯底支撐元件具有用于支撐襯底的支撐表面，所述方法包括：

提供根據(jù)權(quán)利要求14至15中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備；

使所述支撐表面中的至少一些支撐表面與所述工具的所述突出部的所述遠(yuǎn)端接觸，并使用所述工具來修改所述支撐表面。