[發(fā)明專利]用于干燥圖案化的OLED制劑的系統(tǒng)和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980048979.0
• 申請(qǐng)日: 2019-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN112956046A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 康諾F·馬迪根;亞歷山大·蘇-康·高
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 科迪華公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;H01L51/00;H01L21/68
• 代理公司: 北京坦路來專利代理有限公司 11652
• 代理人: 索翌

一種干燥室，其用于干燥具有顯示區(qū)的圖案的基底，所述顯示區(qū)被溶解或懸浮在揮發(fā)性載液中的OLED材料潤濕，且由干燥邊界域彼此隔開。掩模使用與濕潤區(qū)域相對(duì)的蒸汽透過區(qū)域和與干燥邊界區(qū)域相對(duì)的蒸汽阻隔區(qū)域，來調(diào)節(jié)真空萃取過程中載液的干燥速率，或在真空萃取之前，通過將濕潤區(qū)集中限制在足夠小以便迅速被載液飽和的腔室內(nèi)，來調(diào)節(jié)載液的干燥速率。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求在2018年7月23日提交的美國臨時(shí)專利申請(qǐng)第62/702,270號(hào)以及在2019年2月28日提交的美國臨時(shí)專利申請(qǐng)第62/812,143號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容以引用的方式并入于此。

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)是一種發(fā)光二極管(LED)，其中發(fā)光組件包括有機(jī)材料層或有機(jī)材料薄膜。顯示設(shè)備例如電視、計(jì)算機(jī)和移動(dòng)電話，越來越多地包含單獨(dú)控制的小型OLED陣列作為像素。

采用噴墨技術(shù)可將溶解于或懸浮于載液中的OLED材料沉積在基底上。在類似于將文字打印到紙上的過程中，通過將OLED制劑的液滴精確地滴入所需的圖案中，可以將OLED像素“打印”在合適的基底上。然后，經(jīng)干燥步驟去除沉積液中的載液從而留下OLED材料。

在干燥過程中，要精確控制溫度、流量和壓力，以去除載液而不對(duì)像素造成物理扭曲，以免對(duì)顯示質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。然而，很難在像素級(jí)別上精確地控制壓力和溫度。因而，像素和顯示質(zhì)量可以隨顯示區(qū)變化。由此，需要能精確且均勻地控制如何去除OLED沉積材料上的載液的工具和方法。

附圖說明

通過示例的方式而非限制的方式結(jié)合附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。附圖中相同的附圖標(biāo)記表示相似的元件，其中：

圖1示出用于干燥基底105的干燥室100，所述基底105被圖案化為包括由邊界域115隔開的多個(gè)顯示區(qū)110。

圖2詳細(xì)描述了圖1中介紹的基底105和掩模125的部分。

圖3顯示了基底105和掩模125的平面圖。

圖4詳細(xì)描述了根據(jù)另一實(shí)施例的干燥室400。

圖5是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的掩模的平面圖。

圖6是根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例的掩模的平面圖。

圖7A-圖7C是根據(jù)不同實(shí)施例的掩模部分的剖視圖。

發(fā)明內(nèi)容

本文所述的實(shí)施例提供了一種干燥室，其包括：設(shè)置于外殼內(nèi)的基底支撐件，所述基底支撐件具有支撐表面；具有蒸汽透過區(qū)域和蒸汽阻擋區(qū)域的掩模，所述掩模橫跨于所述外殼內(nèi)的所述基底支撐件的支撐表面且設(shè)置成與所述支撐表面相距可調(diào)的距離；連接至所述外殼的氣源；以及連接至所述外殼的真空源。

本文所述的其他實(shí)施例提供了一種用于干燥具有濕潤區(qū)的基底的方法，所述濕潤區(qū)由干燥邊界域隔開且由載液潤濕，所述方法包括：將掩模相對(duì)于基底進(jìn)行定向，所述掩模具有蒸汽透過區(qū)域和蒸汽阻擋區(qū)域；以及通過所述掩模的蒸汽透過區(qū)域從所述基底的所述濕潤區(qū)吸取載液。

本文所述的其他實(shí)施例提供了一種干燥室，其包括：基底支撐件，所述基底支撐件用于支撐具有由干燥邊界域隔開的濕潤區(qū)的基底，所述濕潤區(qū)包括表現(xiàn)出載液蒸汽壓的揮發(fā)性載液；配氣裝置，所述配氣裝置限定所述基底上方的處理空間體積的處理空間，其中所述處理空間體積在五分鐘內(nèi)幾乎達(dá)到揮發(fā)性載液的蒸汽飽和度；以及真空源，所述真空源用于從處理空間中吸取揮發(fā)性載液的蒸汽。

具體實(shí)施方式