[發(fā)明專利]用于干燥圖案化的OLED制劑的系統(tǒng)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980048979.0
• 申請日: 2019-07-23
• 公開（公告）號: CN112956046A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 康諾F·馬迪根;亞歷山大·蘇-康·高
• 申請（專利權(quán)）人: 科迪華公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/00;H01L21/68
• 代理公司: 北京坦路來專利代理有限公司 11652
• 代理人: 索翌

1.一種干燥室，其包括：

設(shè)置于外殼內(nèi)的基底支撐件，所述基底支撐件具有支撐表面；

具有蒸汽透過區(qū)域和蒸汽阻擋區(qū)域的掩模，所述掩模橫跨于所述外殼內(nèi)的所述基底支撐件的支撐表面且設(shè)置成與所述支撐表面相距可調(diào)的距離；以及

連接至所述外殼的氣源；以及

連接至所述外殼的真空源。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其中所述掩模具有延伸穿過所述外殼的掩模支撐件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干燥室，其中所述掩模支撐件位于所述掩模的兩個相對側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其進一步包括在所述掩模和所述真空源之間的配氣元件。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干燥室，其進一步包括外圍蒸汽阻擋層，所述外圍蒸汽阻擋層包圍所述掩模和所述配氣元件之間的間隙。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干燥室，其中所述氣源在向所述蒸汽阻隔層外部提供氣流的位置處與所述外殼偶聯(lián)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括從所述掩模的近端表面向所述支撐表面延伸的壁。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其中所述基底支撐件包括溫控元件。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括剛性材料，所述剛性材料設(shè)置于所述基底上方且與所述基底隔開。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥室，其中每個蒸汽透過區(qū)域具有單個開口、多個開口、網(wǎng)孔、篩網(wǎng)或多孔材料。

11.一種用于干燥具有濕潤區(qū)的基底的方法，所述濕潤區(qū)由干燥邊界域隔開且由載液潤濕，所述方法包括：

將掩模相對于所述基底進行定向，所述掩模具有蒸汽透過區(qū)域和蒸汽阻擋區(qū)域；以及

通過所述掩模的所述蒸汽透過區(qū)域，從所述基底的所述濕潤區(qū)吸取載液。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將掩模相對于所述基底進行定向，使所述蒸汽透過區(qū)域定位在所述濕潤區(qū)的相對側(cè)，并將所述蒸汽阻擋區(qū)域定位在所述干燥邊界域的相對側(cè)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其進一步包括：在所屬基底和所述掩模之間設(shè)置間隙。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，所述吸取使所述載液通過穿孔的配氣元件。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中每個所述濕潤區(qū)為第一形狀，且每個所述蒸汽透過區(qū)域在相似的第二形狀上延伸，所述方法還包括使所述濕潤區(qū)相對于所述蒸汽透過區(qū)域?qū)R。

16.一種干燥室，其包括：

基底支撐件，其用于支撐具有由干燥邊界域隔開的濕潤區(qū)的基底，所述濕潤區(qū)包括表現(xiàn)出載液蒸汽壓的揮發(fā)性載液；

配氣裝置，其限定所述基底上方的處理空間體積的處理空間，其中所述處理空間體積在五分鐘內(nèi)幾乎達到揮發(fā)性載液的蒸汽飽和度；以及

真空源，其從所述處理空間吸取所述揮發(fā)性載液的蒸汽。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的干燥室，其進一步包括：致動器，所述致動器與所述基底支撐件和所述配氣裝置之一連接以裝載和卸載所述基底。

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的干燥室，其進一步包括：包圍所述基底支撐件和所述配氣裝置的輔助處理空間。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的干燥室，其進一步包括：向所述輔助處理空間提供空氣的氣源。