[發明專利]在基材提高光化學反應的效率

在審

• 申請號: 201980048104.0
• 申請日: 2019-05-29
• 公開（公告）號: CN112533695A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 格倫·麥考爾;達倫·克蘭德爾;李博覽;保羅·戴丁
• 申請（專利權）人: 生捷科技控股公司
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12;B01J19/00;C07H1/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

本文公開了一種基材及其溶劑膜，該基材包括用共價連接至該基材的光不穩定基團保護的官能團，該溶劑膜覆蓋該基材，其中膜的厚度小于約100μm。本文還公開了制備此類基材的方法。還公開了合成聚合物的方法、合成聚合物陣列的方法以及去除光不穩定保護基團的方法。這些方法均采用溶劑薄膜覆蓋基材，其中膜的厚度小于100μm。

相關申請的交叉引用

本申請根據35 U.S.C.§119(e)要求于2018年5月29日提交的美國臨時申請序列第62/677,185號的優先權，其通過引用整體并入本文。

技術領域

本文公開了一種基材及其溶劑膜，該基材包括用共價連接至該基材的光不穩定基團保護的官能團，該溶劑膜覆蓋該基材，其中膜的厚度小于約100μm。本文還公開了制備此類基材的方法。還公開了合成聚合物的方法、合成聚合物陣列的方法以及去除光不穩定保護基團的方法。這些方法均采用溶劑薄膜覆蓋基材，其中膜的厚度小于100μm。

背景技術

高密度DNA微陣列已廣泛用于一系列基因組學應用中，包括基因突變和多態性的檢測和分析(Matsuzaki H.,et al.,2004,Nature Methods,1,109-111；以及GundersonK.L.,et al.,2005Nature Genetics,37(5),549-554)；細胞遺傳學(Hudgins,M.M.et al.,2010,Genetics in Medicine,12(11),742-745；Collas,P.,2010,MolecularBiotechnology,45(1),87-100；Maruyama K.,et al.,Methods Mol Biol.2014,1062,381-91,doi:10.1007/978-1-62703-580-4-20；Su A.I.,et al.,2002,Proceeding of theNational Academy of Sciences,99(7),4465-4470；以及Kosuri S.,Church,G.M.,2014,Nature Methods 2014,11(5),499)。

已經透過光刻法(Pease A.C.,et al.,1994,Proceeding of the NationalAcademy ofSciences,5022–5026；McGall G.H.,et al.J.Am.Chem.Soc.(1997)119,5081,Singh-Gasson S.,et al.,Nature Biotechnology 1999,17,974-978；以及PawloskiA.R.et al.,2007,Journal of Vacuum Science and Technology B,25(6),2537-2456)；噴墨印刷(Hughes T.R.et al.,2001,Nature Biotechnology 19:342–347,Lausted C,etal.,2004,Genome Biology 5:R58)；以及(LeProust et al.,2010,Nucleic AcidsResearch 38:2522–2540)；電化學(Liu R.H.,et al.,2006,Expert Reviews ofMolecular Diagnostics 6:253–261)；以及其他方法(Gunderson,K.L.et al.,GenomeResearch 2004.14,870-877)以商業規模在芯片基材上直接原位合成來制造DNA寡核苷酸微陣列。

使用原位合成和光刻法制造DNA微陣列提供了制造密度大于10⁷個不同序列/cm²的陣列的靈活、經濟的方法。這一方法使用光脫保護基團(photoremovable protectinggroup)，諸如，MeNPOC、NNBOC、DMBOC、PYMOC、NPPOC、DEACMOC、SPh-NPPOC等，其中一些說明如下：