[發明專利]在基材提高光化學反應的效率

在審

• 申請號: 201980048104.0
• 申請日: 2019-05-29
• 公開（公告）號: CN112533695A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 格倫·麥考爾;達倫·克蘭德爾;李博覽;保羅·戴丁
• 申請（專利權）人: 生捷科技控股公司
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12;B01J19/00;C07H1/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

1.一種基材，其包含用共價連接至所述基材的光不穩定基團保護的官能團；和覆蓋所述基材的溶劑膜，其中所述膜的厚度小于約100μm。

2.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的厚度小于約100nm。

3.根據權利要求1所述的基材，其中所述光不穩定基團為NNBOC、NNPOC、MENPOC、DMBOC、PYMOC、NPPOC或DEACMOC。

4.根據權利要求1所述的基材，其中所述基材包含平坦表面，所述平坦表面包括一個或多個凸出物。

5.根據權利要求5所述的基材，其中所述凸出物包含金屬、金屬氧化物或金屬氮化物。

6.根據權利要求6所述的基材，其中所述凸出物包含鉭、金、鎢或鉻。

7.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜包含酰胺、烷基亞砜、環丁砜、磷酸三烷基酯、鄰苯二甲酸烷基酯、己二酸烷基酯、苯六甲酸烷基酯、環狀碳酸酯、聚乙二醇(包括聚乙二醇的單烷基醚、聚乙二醇的二烷基醚、聚乙二醇的單鏈烷酸酯、聚乙二醇的二烷酸酯，其中分子量在約250道爾頓和約1000道爾頓之間)、聚乙氧基化多元醇、烷基腈、戊二腈、己二腈、苯基乙腈、烷基氰基乙基醚、雙(2)-氰基乙基醚、乙二醇雙(2)-氰基乙基醚、氰基乙?；ァ㈦x子液體、3-烷基-1-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽或其混合物。

8.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜包含分子量在約250道爾頓和約1000道爾頓之間的聚乙二醇的單烷基醚和環狀碳酸酯的混合物。

9.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的沸點大于約250℃，大于約275℃或大于約300℃。

10.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的蒸氣壓小于約0.02mmHg，小于約0.01mmHg或小于約0.005mmHg。

11.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的log P在約-1和約2之間或在約-0.5和約1.5之間。

12.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的表面張力小于50達因/cm²或小于40達因/cm²。

13.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜的粘度小于150cPs，小于約100cPs或小于約50cPs。

14.根據權利要求1所述的基材，其中所述膜包括一種或多種共反應劑。

15.根據權利要求1所述的基材，其中所述共反應劑是堿、酸、還原劑、氧化劑、敏化劑、光酸產生劑或極性親核溶劑。

16.一種制備包含以光不穩定基團保護的官能團的基材的方法，所述光不穩定基團以共價連接至具有膜的所述基材，所述方法包含用以旋涂方法對所述基材涂覆膜，其中所述膜的厚度小于約100μm。

17.一種在基材上合成聚合物的方法，其包含：

(a)提供包含由光不穩定保護基團保護的官能團的基材；

(b)用溶劑膜涂覆所述基材，其中所述膜的厚度小于約100μm；

(c)照射所述光不穩定基團；

(d)去除所述膜；

(e)將具有光不穩定基團保護的官能團的另一單體偶聯之所述官能團偶聯；以及

(f)重復步驟b、c、d和e一次或多次以合成所述聚合物。