[發(fā)明專利]光學(xué)功能膜、濺射靶及濺射靶的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980046706.2
• 申請日: 2019-09-09
• 公開（公告）號: CN112424390A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梅本啟太;白井孝典;杉內(nèi)幸也;大友健志
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱綜合材料株式會社
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C04B35/56;C04B35/58;C23C14/34;G02B5/08;G06F3/041
• 代理公司: 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 刁興利;康泉

1.一種光學(xué)功能膜，其特征在于，含有：第一成分，由選自TiC、NbC、VC、TiN、NbN及VN中的一種以上組成；和第二成分，由選自In₂O₃、Y₂O₃、Nb₂O₅、V₂O₅、Al₂O₃、ZnO及SiO₂中的一種以上組成，

所述光學(xué)功能膜的膜厚d為30nm以上且100nm以下，可見光區(qū)域的折射率n為1.5以上且2.7以下，且可見光區(qū)域的消光系數(shù)k為0.3以上且1.5以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)功能膜，其特征在于，

所述光學(xué)功能膜的電阻率為5Ω·cm以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)功能膜，其中，

C、N的合計(jì)含量α與O的含量β的原子比α/β為0.01以上且5以下。

4.一種濺射靶，其特征在于，含有：第一成分，由選自TiC、NbC、VC、TiN、NbN及VN中的一種以上組成；和第二成分，由選自In₂O₃、Y₂O₃、Nb₂O₅、V₂O₅、Al₂O₃、ZnO及SiO₂中的一種以上組成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濺射靶，其特征在于，

所述濺射靶的密度比為90％以上，且電阻率為0.1Ω·cm以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的濺射靶，其中，

所述第一成分的含量A與所述第二成分的含量B的摩爾比A/B為0.1以上且20以下。

7.一種濺射靶的制造方法，其特征在于，所述制造方法具有：

粉末混合工序，將由選自TiC、NbC、VC、TiN、NbN及VN中的一種以上組成的第一成分粉末和由選自In₂O₃、Y₂O₃、Nb₂O₅、V₂O₅、Al₂O₃、ZnO及SiO₂中的一種以上組成的第二成分粉末進(jìn)行混合而得到混合粉末；及

燒結(jié)工序，對所述混合粉末進(jìn)行燒結(jié)，

在所述粉末混合工序中，所述第一成分粉末中粒徑10μm以上的粉末的含量為3體積％以上且50體積％以下，

所述第二成分粉末中粒徑10μm以下的粉末的含量為70％以上。