[發(fā)明專利]成膜裝置及成膜方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980043051.3 | 申請日: | 2019-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN112424389A | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 矢島貴浩;中村文生;加藤裕子;植喜信;小倉祥吾 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00;C23C14/12;C23C14/24;H01L21/31 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;劉繼富 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 | ||
本發(fā)明的一個方式涉及的成膜裝置具有腔室、工作臺、光源單元、氣體供給部以及清洗單元。所述腔室具有:腔室主體,其具有成膜室;頂板,其安裝在所述腔室主體,具有窗部。所述工作臺配置在所述成膜室,具有支承基板的支承面。所述光源單元設(shè)置在所述頂板,具有經(jīng)由所述窗部向所述支承面照射能量束的照射源。所述氣體供給部將原料氣體供給至所述成膜室,所述原料氣體包含受所述能量束的照射而固化的能量束固化樹脂。所述清洗單元連接至所述腔室,向所述成膜室導(dǎo)入清洗氣體,所述清洗氣體去除附著在所述頂板、腔室的所述能量束固化樹脂。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種由能量束固化樹脂形成樹脂層的成膜裝置及成膜方法。
背景技術(shù)
在對紫外線固化樹脂等能量束固化樹脂進行固化而在基板上形成樹脂層時,典型地進行以下兩個工序。即,由冷卻工作臺支承基板,向支承在冷卻工作臺的基板上供給包含該樹脂的原料氣體的工序,以及向基板上照射紫外線等的光,在基板上形成固化的樹脂層的工序。
特別是最近,提供了一種成膜裝置,其并非在不同的真空腔室分別進行這樣的多個工序,而是在一個真空腔室進行向基板上供給原料氣體的工序和通過紫外線在基板上形成固化的樹脂層的工序。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2013-064187號公報。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
在這種成膜裝置中,在腔室的頂板設(shè)置透射紫外線的窗部,通過該窗部向成膜室照射紫外線,由此,形成在工作臺上的基板堆積的紫外線固化樹脂的固化物層。另一方面,隨著成膜處理的重復(fù),由于附著在頂板的樹脂的量增加,從窗部透射的紫外線的光通量變低,不能向工作臺上的基板照射足夠量的紫外線。因此,將腔室開放至大氣來洗凈頂板或進行頂板更換操作變得頻繁,難以實現(xiàn)生產(chǎn)率的提高。
鑒于以上原因,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠提高生產(chǎn)率的成膜裝置及成膜方法。
用于解決問題的方案
為了達到上述目的,本發(fā)明的一個方式涉及的成膜裝置具有腔室、工作臺、光源單元、氣體供給部以及清洗單元。
所述腔室具有:腔室主體,其具有成膜室;頂板,其安裝在所述腔室主體,具有窗部。
所述工作臺配置在所述成膜室,具有支承基板的支承面。
所述光源單元設(shè)置在所述頂板,具有經(jīng)由所述窗部向所述支承面照射能量束的照射源。
所述氣體供給部將原料氣體供給至所述成膜室,所述原料氣體包含受所述能量束的照射而固化的能量束固化樹脂。
所述清洗單元連接至所述腔室,向所述成膜室導(dǎo)入去除附著在所述頂板的所述能量束固化樹脂的清洗氣體。
上述成膜裝置因為具有去除附著在頂板的能量束固化樹脂的清洗單元,所以能夠不將腔室開放至大氣而進行頂板的清洗,因此能夠提高生產(chǎn)率。
所述清洗單元可以包括產(chǎn)生作為所述清洗氣體的氧等離子體的等離子體發(fā)生器。
所述氣體供給部可以具有:噴淋板,其與所述頂板相向配置,由使所述能量束透射的材料構(gòu)成;空間部,其形成在所述頂板和所述噴淋板之間,導(dǎo)入所述原料氣體。在該情況下,所述清洗單元將所述清洗氣體導(dǎo)入所述空間部。由此,不僅能夠清洗頂板,也能夠進行噴淋板的清洗。
所述清洗單元可以包括產(chǎn)生作為所述清洗氣體的氧等離子體的等離子體發(fā)生器。
所述等離子體發(fā)生器可以設(shè)置在所述氣體供給部周圍的多處。
所述工作臺可以具有能夠冷卻所述支承面的冷卻源。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
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C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





