[發明專利]成膜裝置及成膜方法

在審

• 申請號: 201980043051.3
• 申請日: 2019-09-10
• 公開（公告）號: CN112424389A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 矢島貴浩;中村文生;加藤裕子;植喜信;小倉祥吾
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/00
• 分類號: C23C14/00;C23C14/12;C23C14/24;H01L21/31
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 袁波;劉繼富

1.一種成膜裝置，其具有：

腔室，其具有腔室主體和頂板，所述腔室主體具有成膜室，所述頂板安裝在所述腔室主體且具有窗部；

工作臺，其配置在所述成膜室，具有支承基板的支承面；

光源單元，其設置在所述頂板，具有經由所述窗部向所述支承面照射能量束的照射源；

氣體供給部，其將原料氣體供給至所述成膜室，所述原料氣體包含受所述能量束的照射而固化的能量束固化樹脂；以及，

清洗單元，其連接至所述腔室，向所述成膜室導入清洗氣體，所述清洗氣體去除附著在所述頂板的所述能量束固化樹脂。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述氣體供給部具有：

噴淋板，其與所述頂板相向配置，由使所述能量束透射的材料構成；以及，

空間部，其形成在所述頂板和所述噴淋板之間，被導入所述原料氣體，

所述清洗單元將所述清洗氣體導入所述空間部。

3.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其中，

所述清洗單元包括產生作為所述清洗氣體的氧等離子體的等離子體發生器。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的成膜裝置，其中，

所述等離子體發生器設置在所述腔室周圍的多處。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的成膜裝置，其中，

所述工作臺具有能夠冷卻所述支承面的冷卻源。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的成膜裝置，其中，

所述頂板還具有支承所述窗部的框部以及加熱所述框部的加熱源。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的成膜裝置，其中，

所述照射源為紫外線燈。

8.一種成膜方法，使用權利要求1至7中任一項所述的成膜裝置，

通過從所述氣體供給部向支承在所述支承面的基板上供給原料氣體，使能量束固化樹脂堆積在所述基板上，

通過從所述照射源經由所述窗部照射能量束，形成所述能量束固化樹脂的固化物層，

通過清洗氣體去除附著在所述頂板的能量束固化樹脂。