[發明專利]蒸鍍器主體

有效

• 申請號: 201980037537.6
• 申請日: 2019-05-23
• 公開（公告）號: CN112218974B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: P·戈茨
• 申請（專利權）人: CVT股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/14;C23C14/24;C23C14/26
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 王珺;林軍

一種用于在PVD金屬化設備中蒸鍍金屬的蒸鍍器主體(1)，其具有：上側(3)，上側具有第一和第二縱向邊緣(5?1，5?2)以及第一和第二橫向邊緣(7?1，7?2)，橫向邊緣橫向于縱向邊緣延伸；和第一和第二縱向溝槽(11?1，11?2)，縱向溝槽構成在上側(3)中，其中第一縱向溝槽(11?1)相鄰于且沿著第一縱向邊緣(5?1)延伸，并且第二縱向溝槽(11?2)相鄰于且沿著第二縱向邊緣(5?2)延伸，其中縱向溝槽(11?1，11?2)的端部距橫向邊緣(7?1，7?2)具有一定間距，并且其中由蒸鍍器主體(1)的上側(3)形成的內置的蒸鍍面(13)由縱向溝槽(11?1，11?2)在縱向側直接限界。

技術領域

本發明涉及用于在PVD金屬化設備中蒸鍍金屬的蒸鍍器主體。

背景技術

用于利用金屬對柔性基底進行覆層的常用方法是所謂的根據PVD(物理氣相沉積)技術的真空袋金屬化。例如考慮紙、塑料薄膜和織物作為柔性基底，并且主要將鋁用作為金屬。如此覆層的基底例如廣泛用于包裝和裝飾目的、用于電容器制造以及用于環境技術(隔離)中。

柔性基底的覆層在所謂的金屬化設備中進行。在金屬化設備中經由被冷卻的輥子引導待覆層的基底并且在此暴露于金屬蒸汽，金屬蒸汽在基底表面上作為薄的金屬層沉淀。為了產生所需要的金屬蒸汽流，使用可電阻加熱的蒸鍍主體，其例如呈所謂的蒸鍍器梭形式，其在直接的穿流中被加熱到例如1450-1600℃。金屬線，例如綠鋁被輸送給蒸鍍側(通常這是蒸鍍器主體的上側)，在該蒸鍍側上液化并且在真空中在大于10^-4mbar中被蒸鍍。

根據PVD技術例如以批次的方式以非連續工藝，例如借助于閃蒸對非柔性的基底進行覆層。非柔性基底例如是電視機屏幕和塑料部件，即例如探照燈反光器。

通常的蒸鍍器主體例如由陶瓷材料構成，陶瓷材料包含例如二硼化鈦和氮化硼和/或氮化鋁。二硼化鈦在此是導電成分，并且氮化硼和/或氮化鋁是一種或多種電絕緣成分，所述成分彼此混合以產生80-6000μOhm*cm的比熱電阻，其中導電與非導電成分的混合比為例如各50重量％。

在實踐中經常出現的問題是蒸鍍器主體的蒸鍍側被待蒸鍍的金屬潤濕。在蒸鍍側的潤濕不均勻且不完全的情況下，例如在蒸鍍開始時，存在如下問題：即蒸鍍側通過待蒸鍍的金屬不均勻地冷卻并且能夠在蒸鍍側的未被潤濕的區域中設定過高的溫度，該溫度損害(破壞)蒸鍍器主體。該效果通過如下進一步加強：即在蒸鍍側的未潤濕的區域中，總電阻相對于已經潤濕的區域更大，因為待蒸鍍的金屬在潤濕的區域中構成與蒸鍍器主體的并聯電阻，進而在潤濕區域中降低蒸鍍器主體的總電阻。此外，在蒸鍍側的潤濕區域中因由于侵蝕性的金屬熔融引起的高溫腐蝕而發生蒸鍍器主體的磨損，使得必須提供具有足夠材料厚度的蒸鍍器主體，以便實現足夠的使用壽命。這導致蒸鍍器主體的過高的材料成本。

因此，在現有技術中，蒸鍍側通常提供有多個空腔，空腔應實現改進地潤濕蒸鍍側。例如，DE 10 2013 211 034 A1示出一種蒸鍍器主體，其具有內部的和環繞的外部空腔，該空腔通過腹板彼此分開。然而，這導致蒸鍍器主體在內部空腔(熔池)的尤其受高溫腐蝕影響的區域中的厚度局部減小，由此會減小這種蒸鍍器主體的使用壽命并且蒸鍍器主體的總電阻會大。

發明內容

本發明的目的在于：提供一種不敏感的且持久的蒸鍍器主體。此外，應可簡單且便宜地制造蒸鍍器主體并且能夠簡單地在PVD金屬化設備中運行。

為此，本發明提出一種根據權利要求1的蒸鍍器主體以及一種根據權利要求15的結合有蒸鍍器主體的PVD金屬化設備。蒸鍍器主體的其他的實施方式在從屬權利要求中描述。

根據本發明的用于在PVD金屬化設備中蒸鍍金屬的蒸鍍器主體具有：上側(例如蒸鍍側)，可以從上側起蒸鍍所輸送的金屬。例如，可以為上側輸送金屬線形式的金屬，即例如鋁或鋁合金。替選地/附加地可行的是：已經為上側輸送熔融金屬。在金屬線的情況下，輸送給上側的金屬首先在熱的上側液化/熔融并且隨后蒸鍍。蒸鍍器主體例如可以具有縱向延伸的造型，其具有可選矩形的上側。