[發明專利]組合物和蝕刻方法有效
| 申請號： | 201980033210.1 | 申請日： | 2019-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN112135927B | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發明（設計）人： | 正元祐次;阿部徹司;千葉廣之;野口裕太 | 申請（專利權）人： | 株式會社ADEKA |
| 主分類號： | C23F1/18 | 分類號： | C23F1/18;H01L21/308;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 組合 蝕刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種組合物，其為含有如下成分的水溶液：
(A)選自銅離子和鐵離子中的至少1種成分0.1～25質量％；
(B)氯化物離子0.1～30質量％；
(C)下述通式(1)所示的、數均分子量550～1400的化合物0.01～10質量％；
(D)下述通式(2)所示的化合物0.01～10質量％；和
水，
所述通式(1)中，R1表示單鍵、或碳原子數1～4的直鏈或支鏈狀的亞烷基，R2和R3各自獨立地表示碳原子數1～4的直鏈或支鏈狀的亞烷基，R4和R5各自獨立地表示氫原子、或碳原子數1～4的直鏈或支鏈狀的烷基，n各自獨立地表示所述通式(1)所示的化合物的數均分子量成為550～1400的數，
所述通式(2)中，R6表示正丁基，R7表示碳原子數2～4的直鏈狀或支鏈狀的亞烷基，m表示1～3的整數。
2.根據權利要求1所述的組合物，其中，所述通式(1)中，R1為亞乙基，R2和R3為甲基亞乙基。
3.根據權利要求1或2所述的組合物，其中，所述通式(2)中，R7為亞乙基，m為1。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的組合物，其為用于對金屬層進行蝕刻的蝕刻液組合物。
5.根據權利要求4所述的組合物，其中，所述金屬層為銅系層。
6.一種蝕刻方法，其具備如下工序：使用權利要求4或5所述的組合物進行蝕刻。
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