[發明專利]撞擊電離噴霧離子源或電噴霧電離離子源

在審

• 申請號: 201980031618.5
• 申請日: 2019-05-15
• 公開（公告）號: CN112106170A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 斯特萬·巴伊奇
• 申請（專利權）人: 英國質譜公司
• 主分類號: H01J49/04
• 分類號: H01J49/04;H01J49/16
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋融冰

公開了一種撞擊電離噴霧離子源或電噴霧電離離子源，所述撞擊電離噴霧離子源或電噴霧電離離子源包括霧化器(30)，所述霧化器具有用于提供液體樣品的第一導管(11)和用于提供霧化氣體以霧化所述液體樣品的第二導管(10)。所述第一導管(11)和所述第二導管(10)具有彼此一體的構造并且可以由玻璃制成。所述離子源可以提供經霧化樣品的一致和/或可預測的噴霧輪廓。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2018年5月16日提交的英國專利申請第1807914.5號的優先權和權益。此申請的全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明總體上涉及撞擊器噴霧(或撞擊電離)離子源或電噴霧電離離子源，并且涉及包括撞擊器噴霧離子源或電噴霧電離離子源的質譜儀和/或離子遷移率譜儀。

背景技術

撞擊器噴霧(或撞擊電離)離子源和電噴霧電離(ESI)離子源可以用于例如液相色譜分析/質譜分析(LC/MS)系統中。兩種類型的離子源通常都利用氣動霧化器將來自液相色譜(LC)柱的液體流轉換成帶電氣溶膠。此過程通常發生在大氣壓或接近大氣壓的室中，所述室含有到質譜分析(MS)系統的離子入口孔和廢棄物的排放出口。因此撞擊器噴霧和電噴霧電離通常用作大氣壓電離(API)離子源。

撞擊器噴霧離子源和電噴霧電離離子源通常利用由遞送樣品液體流的內部導管和遞送高速氮氣以實現霧化的單獨外部導管構造的霧化器。然而，單獨導管端的同心度和質量的變化可能會不利地影響噴霧的形狀和方向，這會導致霧化器彼此的再現性問題。

再現性問題可以通過向內部導管引入機械調節使得其相對于外部導管的定位突出或縮緊(通常≤0.5mm)而在一定程度上得到解決。另外，這些電離源可以包含用于噴霧相對于質譜儀的離子入口的豎直定位和水平定位的機械調節。這些機械調節可以用于提高各種流率下的離子采樣效率，并且通常有助于減少霧化器彼此的性能可變性。然而，這些機械調節也可能增加制造成本并且增加源調諧過程的復雜度。此外，在撞擊器噴霧源或撞擊電離源的情況下，噴霧不一致性可能會妨礙此類霧化器在低成本儀器的基本上固定的幾何結構源中的使用，其中源性能可能極度依賴于噴霧撞擊撞擊器或撞擊靶的點。

此外，為了防止電荷積聚(針對撞擊器噴霧)或為了對樣品充電(針對電噴霧)，通常在撞擊器或撞擊電離噴霧離子源和電噴霧電離離子源中使用傳導不銹鋼管。然而，不銹鋼管并不總是惰性的，尤其是在如完整蛋白質等生物材料的情況下。另外，如肽等較小的分析物可以形成可能降低LC/MS分析的靈敏度的不期望的鐵加合物(Fe+)。

電感耦合等離子體/質譜分析(ICP/MS)系統中常規使用玻璃霧化器。但是，此類霧化器是非傳導的并且因此不用于撞擊器噴霧離子源和/或電噴霧電離離子源。

期望提供改進的撞擊器噴霧離子源和/或電噴霧電離離子源。

發明內容

根據一方面，提供了一種撞擊器噴霧(或撞擊電離)離子源或電噴霧電離離子源，所述撞擊器噴霧離子源或電噴霧電離離子源包括：

霧化器，所述霧化器具有用于提供液體樣品的第一導管和用于提供霧化氣體以霧化所述液體樣品的第二導管，其中所述第一導管和所述第二導管具有彼此一體的構造。

在實施例中，提供具有彼此一體的構造的第一導管和第二導管(例如，提供一體式或“單件式”霧化器主體)可以避免對機械地調節所述第一導管的出口相對于所述第二導管的出口的定位的需要和/或能力。因此，在實施例中，第一導管的出口的定位可以相對于第二導管的出口保持基本上固定。因此實施例可以提供霧化的樣品的一致和/或可預測的噴霧輪廓。