[發明專利]撞擊電離噴霧離子源或電噴霧電離離子源

在審

• 申請號: 201980031618.5
• 申請日: 2019-05-15
• 公開（公告）號: CN112106170A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 斯特萬·巴伊奇
• 申請（專利權）人: 英國質譜公司
• 主分類號: H01J49/04
• 分類號: H01J49/04;H01J49/16
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋融冰

1.一種撞擊器噴霧離子源或電噴霧電離離子源，其包括：

霧化器，所述霧化器具有用于提供液體樣品的第一導管和用于提供霧化氣體以霧化所述液體樣品的第二導管，其中所述第一導管和所述第二導管具有彼此一體的構造。

2.根據權利要求1所述的離子源，其中所述第一導管的出口具有基本上圓形的橫截面輪廓和/或所述第二導管的出口具有基本上圓形的橫截面輪廓。

3.根據權利要求1或2所述的離子源，其中所述第二導管的所述出口圍繞或周向地包圍單個第一導管。

4.根據權利要求1、2或3所述的離子源，其中所述第一導管和所述第二導管的所述出口是基本上同心的和/或共邊界的。

5.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其中所述霧化器由吹制材料形成。

6.根據權利要求1到4中任一項所述的離子源，其中所述霧化器由模制材料形成。

7.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其中所述霧化器由玻璃形成。

8.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其中所述霧化器由陶瓷、塑料或聚合物材料形成。

9.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其中所述霧化器由基本上非金屬和/或基本上非鐵和/或基本上非傳導材料形成。

10.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其進一步包括襯里導管，所述襯里導管位于所述第一導管內，其中所述襯里導管具有基本上均勻的直徑和/或比所述第一導管更均勻的直徑。

11.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其進一步包括一個或多個連接器，所述一個或多個連接器用于將所述離子源流體連接到液體樣品源。

12.根據權利要求11所述的離子源，其中所述一個或多個連接器包括一個或多個零死體積(ZDV)連接器。

13.根據前述權利要求中任一項所述的離子源，其進一步包括一個或多個電極，所述一個或多個電極用于向所述樣品提供電荷和/或用于從所述霧化器去除電荷。

14.根據權利要求13所述的離子源，其中所述一個或多個電極包括設置在所述第一導管內的一個或多個絲狀電極。

15.根據權利要求13或14所述的離子源，其中所述一個或多個電極包括設置在所述第一導管和/或所述第二導管周圍的一個或多個環狀電極。

16.根據權利要求13、14或15所述的離子源，其中所述一個或多個電極包括用于將所述離子源流體連接到液體樣品源的一個或多個連接器或形成所述一個或多個連接器的一部分。

17.一種質譜儀和/或離子遷移率譜儀，其包括根據前述權利要求中任一項所述的離子源。

18.一種撞擊器噴霧或電噴霧電離的方法，其包括：

通過霧化器的第一導管提供液體樣品以及通過所述霧化器的第二導管提供霧化氣體以霧化所述液體樣品，其中所述第一導管和所述第二導管具有彼此一體的構造。

19.一種質譜分析和/或離子遷移率譜分析的方法，其包括根據權利要求18所述的撞擊器噴霧或電噴霧電離的方法。

20.一種撞擊器噴霧離子源、撞擊電離離子源或電噴霧電離離子源，其包括：

霧化器，所述霧化器具有用于提供液體樣品的第一導管和用于提供霧化氣體以霧化所述液體樣品的第二導管，其中：

所述第一導管和所述第二導管的出口是基本上同心的并且在所述第一導管和所述第二導管的退出區域處具有基本上圓形的橫截面輪廓；

所述第二導管的所述出口圍繞或周向地包圍單個第一導管；并且

所述第一導管和所述第二導管具有彼此一體的構造并且由玻璃形成。