[發明專利]管狀線性致動器、圖案形成裝置掩蔽裝置和光刻設備

在審

• 申請號: 201980028000.3
• 申請日: 2019-03-21
• 公開（公告）號: CN112041748A
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發明（設計）人: P·M·S·M·海杰曼斯;O·M·J·費希爾;M·H·基曼;E·范霍恩;A·H·弗維杰
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H02K41/03
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

本發明提供一種管狀線性致動器，該管狀線性致動器包括：管狀線圈組件，其包括在管狀線性致動器的縱向方向上彼此相鄰并且相對于管狀線性致動器的縱向軸線同心地布置的多個管狀線圈；以及磁體組件，其包括在縱向方向上延伸并且具有交替極化方向的一系列永磁體，其中磁體組件至少部分布置在線圈組件中并且相對于線圈組件可移動，其中管狀線圈包括邊緣繞組。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2018年4月25日提交的EP申請18169161.9的優先權，其全部內容通過引用合并于此。

技術領域

本發明涉及管狀線性致動器、圖案形成裝置掩蔽裝置和光刻設備。

背景技術

光刻設備是一種將期望圖案施加到襯底上、通常施加到襯底的目標部分上的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將圖案形成裝置(可選地稱為掩?；蜓谀０?用于生成要形成在IC的個體層上的電路圖案。該圖案可以被轉印到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一個或幾個管芯的一部分)上。圖案的轉印通常是通過成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進行的。通常，單個襯底將包含連續圖案化的相鄰目標部分的網。已知的光刻設備包括：所謂的步進器，其中通過一次將整個圖案曝光到目標部分上來照射每個目標部分；以及所謂的掃描儀，其中通過在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案同時在平行或反平行于該方向的方向上同步掃描襯底來照射每個目標部分。也可以通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底上。

在已知的掃描儀型光刻設備中，圖案形成裝置掩蔽裝置用于阻擋將被投射到實際要投影的圖案之外的任何光。這種圖案形成裝置掩蔽裝置可以具有以下益處。圖案形成裝置掩蔽裝置(1)消除了對具有寬(即，昂貴)的遮光邊界區域(例如，由鉻制成)的需求，(2)阻擋了否則可能通過邊界區域中的針孔而泄漏的光，(3)允許暴露整個圖案化區域的選定部分，以及(4)選擇性地遮擋圖案形成裝置對準目標，以便它們不被印刷在襯底上。

通常，已知的光刻設備的圖案形成裝置掩蔽裝置包括被配置為兩對的四個獨立地可移動掩蔽葉片。一對掩蔽葉片的邊緣平行于曝光掃描軸線對準。該第一對在曝光掃描期間通常保持靜止，并且限制了曝光場的寬度。第二對掩蔽葉片的邊緣與掃描軸線正交地對準。該第二對在圖案化的情況下同步地移動，并且限制了要投射在圖案形成裝置上的輻射束的尺寸，并且從而限制了曝光場的長度。

例如，已知的圖案形成裝置掩蔽裝置的示例在US2005/0200830A1中有公開，其內容通過引用并入本文。

隨著對光刻設備的生產量和重疊性能的需求的增加，需要改善圖案形成裝置掩蔽裝置的性能。尤其是，掩蔽葉片的移動應當足夠快速和準確。因此，可能還需要提供一種用于掩蔽葉片的致動器系統，該致動器系統需要更小的體積、更高的效率以及因此更少的功耗。

發明內容

本發明的目的是提供一種用于可移動元件，特別是用于圖案形成裝置掩蔽裝置的掩蔽葉片的致動器，該致動器能夠在加速度、速度和/或散熱方面實現高性能。本發明的總的目的是提供一種用于可移動元件、特別是用于光刻設備的可移動元件的改進的致動器。

根據本發明的一個方面，提供了一種管狀線性致動器，包括：

管狀線圈組件，包括在管狀線性致動器的縱向方向上彼此相鄰布置并且相對于管狀線性致動器的縱向軸線同心的多個管狀線圈，以及

磁體組件，包括在縱向方向上延伸并且具有交替極化方向的一系列永磁體，

其中磁體組件至少部分布置在線圈組件中并且相對于線圈組件可移動，以及

其中管狀線圈包括邊緣繞組。

根據本發明的一個方面，提供了一種管狀線性致動器，包括：