[發明專利]工件加工用片在審
| 申請號: | 201980026145.X | 申請日: | 2019-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN111989764A | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發明(設計)人: | 森田由希;山下茂之 | 申請(專利權)人: | 琳得科株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/304 | 分類號: | H01L21/304;H01L21/683;B23K26/00;C09J7/20;C09J7/38;C09J201/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;敖蓮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工件 工用 | ||
1.一種工件加工用片,其至少具備基材與層疊于所述基材的第一面側的粘著劑層,所述工件加工用片的特征在于,
所述基材的第二面的算術平均粗糙度(Ra)為0.01μm以上、0.4μm以下,
所述基材的第二面的最大高度粗糙度(Rz)為0.01μm以上、2.5μm以下,
所述基材的波長532nm的透光率為40%以上。
2.根據權利要求1所述的工件加工用片,其特征在于,所述基材的波長400nm的透光率為40%以上。
3.根據權利要求1或2所述的工件加工用片,其特征在于,所述基材的波長800nm的透光率為45%以上。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的工件加工用片,其特征在于,其用于包含隔著所述工件加工用片對工件進行激光打標的工序的用途。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的工件加工用片,其特征在于,其用于切割。
6.根據權利要求5所述的工件加工用片,其特征在于,其用于隱形切割。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





