[發明專利]方法、測量系統、以及光刻裝置

在審

• 申請號: 201980025846.1
• 申請日: 2019-04-15
• 公開（公告）號: CN112005171A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: F.特魯貝爾;C.費策爾
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/00;G02B7/182
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

本發明公開了一種確定光學部件(202)的行進路徑(x，y)中的異常(500)的位置的方法，該光學部件(202)在光刻裝置(100A，100B)中或用于該光刻裝置(100A，100B)中，該方法包含下列步驟：a)在至少一個第一自由度(F_x，F_y)中移動該光學部件(202)、b)在至少一個第二自由度(F_Rz)中檢測該光學部件(202)的移動(R_z)和/或作用于該光學部件(202)上的力量(M_z)，及c)確定該異常(500)的位置為在步驟b)中所檢測的移動(R_z)和/或在步驟b)中所檢測的力量(M_z)的函數。

本發明關于一種確定光刻裝置中或用于光刻裝置的光學部件的行進路徑中的異常的位置的方法。此外，本發明關于一種測量系統和一種光刻裝置。

本申請要求德國專利申請DE 10 2018 205 714.1(2018年4月16日提交)的優先權，該專利申請的全部內容通過引用并入本文。

使用微光刻技術產生微結構化部件，例如集成電路。使用具有照明系統和投射系統的光刻裝置進行微光刻工藝。通過該照明系統照明的掩模(掩模母版)的像，在這情況下，藉助該投射系統投射到涂布有光敏層(光刻膠)且設置于該投射系統的像平面中的基板(例如硅晶片)上，以轉印該掩模結構到該基板的光敏涂層。

在光刻裝置中，特別是在極紫外光(EUV)光刻裝置中且主要在照明鏡頭中，使用包含特別是藉助洛倫茲(Lorentz)致動器主動調節的多個光學部件的模塊。所述光學部件特別是包含反射鏡。

所述光學部件必須能夠被設置于指定的多維行進路徑內，特別是在六個自由度中。該行進路徑的規范提供最小和最大行進路徑兩者。在這情況下，該最大行進路徑必須使得對應光學部件不會以不受控制的方式與定界(delimitation)碰撞，并因此導致損壞。舉例來說，此碰撞的原因可為例如該對應照明鏡頭的運輸期間的機電不穩定、操作不正確或振動。

因此，機械限制光學部件的行進路徑的機械定界已變成已知技術。

通常，在該光刻裝置的調節操作期間，此機械定界在光學部件與安裝于該支撐框架上的終端止擋件(也稱為機械終端止擋件)之間提供空氣間隙。在瑕疵的情況下，光學部件撞擊終端止擋件。然而，只有在該空氣間隙沒有顆粒時，才能以預定最小力量消耗的方式使用該完整行進路徑。盡管在EUV光刻裝置中實施多種多樣措施以便避免污染，不過仍可發生此顆粒進到對應空氣間隙。

其中完整行進路徑無法被使用的又一情境是光學部件或終端止擋件上的空氣間隙側涂層有瑕疵。舉例來說，所述涂層可能具有剝落、夾雜物或不均勻性。

最后，若錯誤進行終端止擋件相對于光學部件的安裝，則可能也會使得完整行進路徑無法被使用。

由于在光刻裝置的情況下的中斷時間導致很大的經濟損失，因此所需為盡可能快速檢測前述導致過早接觸，從而導致行進路徑的非所需限制的異常。

在此背景下，本發明的目的是提供一種確定光刻裝置中或用于光刻裝置的光學部件的行進路徑中的異常的位置的改良方法。此外，用意是提供一種改良的測量系統和一種改良的光刻裝置。

因此，提供一種確定光刻裝置中或用于光刻裝置的光學部件的行進路徑中的異常的位置的方法，其包含下列步驟：

a)在至少一個第一自由度中移動光學部件，

b)在至少一個第二自由度中檢測光學部件的移動和/或作用于光學部件上的力量，以及

c)作為在步驟b)中所檢測的移動和/或在步驟b)中所檢測的力量函數，確定異常位置。

本發明的構思在于，通過觀察光學部件的第二自由度(其是與第一自由度不同的自由度)，得出關于第一自由度中的異常的結論。因此，可快速確定對應異常位置，由此減少該光刻裝置的中斷時間。