[發明專利]方法、測量系統、以及光刻裝置

在審

• 申請號: 201980025846.1
• 申請日: 2019-04-15
• 公開（公告）號: CN112005171A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: F.特魯貝爾;C.費策爾
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/00;G02B7/182
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種確定光學部件(202)的行進路徑(x，y)中的異常(500)的位置的方法，該光學部件(202)在光刻裝置(100A，100B)中或用于該光刻裝置(100A，100B)，該方法包含下列步驟：

a)在至少一個第一自由度(F_x，F_y)中移動該光學部件(202)；

b)在至少一個第二自由度(FR_z)中檢測該光學部件(202)的移動(R_z)和/或作用于該光學部件(202)上的力量(M_z)；及

c)確定該異常(500)的位置為在步驟b)中所檢測到的移動(R_z)和/或在步驟b)中所檢測的力量(M_z)的函數。

2.如權利要求1所述的方法，其中該第一或第二自由度(F_x，F_y，F_Rz)為平移自由度，且相應其他自由度為旋轉自由度。

3.如權利要求2所述的方法，其中該第一自由度(F_x，F_y)為平移自由度，且該第二自由度(F_Rz)為旋轉自由度。

4.如權利要求3所述的方法，其中該光學部件(202)根據步驟a)的移動受到至少一個終端止擋件(206A，206B，206C)限制。

5.如權利要求1至4中任一項所述的方法，其中根據預定路徑或預定移動模式(BM)執行在步驟a)中移動該部件。

6.如權利要求5所述的方法，其中該預定移動模式(BM)在一平面(x，y)中具有該光學部件(202)的多個平移移動，所述平移移動從中心點(POC)出發。

7.如權利要求5或6所述的方法，其中將在步驟c)中確定該異常(500)的位置另外執行為該預定路徑或該預定移動模式(BM)的函數，和/或執行為在步驟a)中移動該光學部件(202)的致動力量(F₅，F₆)的函數。

8.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中檢測到該光學部件(202)根據步驟a)的移動，并將在步驟c)中確定該異常(500)的位置另外執行為檢測的移動(x_實際，y_實際)的函數。

9.如權利要求1至8中任一項所述的方法，其中在步驟c)中確定至少一個終端止擋件(206A，206B，206C)具有該異常(500)。

10.如權利要求1至9中任一項所述的方法，其中該至少一個終端止擋件(206A，206B，206C)具有接合于該光學部件(202)的切口(208)中的栓釘(210)，其中該栓釘(210)與該切口(208)之間有環形間隙(212)。

11.如權利要求10所述的方法，其中該異常(500)為該環形間隙(212)中的顆粒、該切口(208)和/或該栓釘(210)的涂層瑕疵、和/或該栓釘(210)相對于該切口(208)的錯誤對準。

12.如權利要求1至11中任一項所述的方法，其中該光學部件(202)為反射鏡、透鏡元件、光柵或λ板。