[發明專利]產生T細胞譜系細胞的方法在審
| 申請號: | 201980025370.1 | 申請日: | 2019-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN112041431A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發明(設計)人: | J·C·阻尼加-普魯科爾;M·莫塔希亞米;A·特羅特曼-格蘭特 | 申請(專利權)人: | 桑尼布魯克研究所 |
| 主分類號: | C12N5/0783 | 分類號: | C12N5/0783;A61K35/17;C07K14/705;C07K17/00;C12N5/071;C12N5/0735;C12N5/0789 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 產生 細胞 譜系 方法 | ||
1.產生T細胞譜系細胞的方法,其包括:(a)培養包含干細胞或祖細胞的樣本,其中所述干細胞或祖細胞具有綴合至懸浮支持物的Notch配體;以及(b)分離T細胞譜系細胞。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述懸浮支持物是顆粒。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述懸浮支持物是微珠。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其中所述具有Notch配體的干細胞或祖細胞為懸浮培養。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的方法,其中所述干細胞選自:造血干/祖細胞(HSPC)、胚胎干細胞或誘導性多能干細胞(iPSC)。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其中所述干細胞是CD34+或CD34+CD38-/loHSPC。
7.根據權利要求1-4中任一項所述的方法,其中所述干細胞是CD34+造血前體細胞,任選地為從iPSC分化而來的CD34+造血前體細胞。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的方法,其中所述Notch配體是DL4。
9.根據權利要求1-8中任一項所述的方法,其中所述T細胞譜系細胞是T細胞祖細胞(proT)。
10.根據權利要求9所述的方法,其中所述干細胞或祖細胞是人類細胞,并且所述proT細胞具有CD34+CD7+或CD7+CD5+CD1a-表型。
11.根據權利要求10所述的方法,其中所述干細胞或祖細胞是小鼠細胞,任選地為譜系-CD117+Sca-1+小鼠細胞,并且所述proT細胞具有CD25+或CD25+CD90+表型。
12.根據權利要求1-8中任一項所述的方法,其中所述T細胞譜系細胞是CD4+CD8+雙陽性細胞、CD4+CD8+CD3+雙陽性細胞、CD8+CD3+單陽性細胞或CD4+CD3+單陽性細胞。
13.根據權利要求1-12中任一項所述的方法,其中所述干細胞或祖細胞培養于無基質細胞的培養基。
14.根據權利要求1-13中任一項所述的方法,其中所述干細胞或祖細胞與至少一種T細胞共刺激分子一起培養,所述T細胞共刺激分子結合至懸浮支持物,任選地其中所述至少一種T細胞共刺激分子是VCAM1。
15.T細胞譜系細胞,其中所述細胞通過權利要求1-14中任一項所述的方法產生。
16.根據權利要求15所述的細胞,其中所述細胞是T細胞祖細胞、CD4+CD8+雙陽性細胞、CD4+CD8+CD3+雙陽性細胞、CD8+CD3+單陽性細胞或CD4+CD3+單陽性細胞。
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