[發明專利]具有用于均勻成像的聚焦閃爍體結構的X射線探測器

在審

• 申請號: 201980025284.0
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN111971585A
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: H·施泰因豪澤;O·J·維默斯
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01T1/202
• 分類號: G01T1/202
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄

一種用于X射線成像的雙層探測器(XD)，包括至少兩個光敏表面(LSS1、LSS2)。雙層探測器還包括第一閃爍體層(SL、SL1)，其包括能夠將X輻射轉換成光的至少一個閃爍體元件(SE)，所述元件具有兩個面，即用于使X輻射進入元件(SE)的入射面(S1)以及在入射面(S1)遠端的出射面(S2)，其中，兩個面(S1、S2)被布置成相對于彼此移位，使得閃爍體元件(SE)的縱軸(LAX)相對于該層的法線(n)傾斜。閃爍體元件(SE)具有在兩個面(S1、S2)之間延伸的側壁(w、w1)，閃爍體層(SL)還包括具有側壁(w’、w1’)的第二這樣的閃爍體元件(SE’)，第二閃爍體元件(SE’)與第一閃爍體元件(SE)相鄰，其中，第一閃爍體元件(SE)的側壁(w、w1)和第二閃爍體元件(SE’)的側壁(w’、w1’)相鄰并且相對于彼此傾斜。雙層探測器(XD)還包括這樣的第二閃爍體層(SL2)。光敏表面(LSS1、LSS2)之一布置在兩個閃爍體層(SL1、SL2)之間。

技術領域

本發明涉及一種閃爍體層、一種X射線探測器、一種X射線成像裝置、一種計算機程序單元以及一種計算機可讀介質。

背景技術

一些X射線成像系統使用間接轉換類型的探測器。間接轉換型探測器寬廣地包括閃爍體和傳感器。閃爍體將傳入的X輻射轉換為光。然后，光被傳感器探測到。合適的傳感器包括光電二極管。光電二極管將光轉換為電信號。然后可以將電信號轉換成圖像值。圖像值可以被用于獲得患者的感興趣解剖結構的X射線影像。

WO 2010/018496描述了具有間接轉換類型探測器技術的X射線成像系統。閃爍體由生長的晶體針形成，例如CsI(銫碘)。技術使用額外部件，諸如放置在晶體閃爍體頂部的平面化層，以實現平面表面。

而且，針對探測器的部分的成像性質跨探測器表面可能不均勻。

此外，由生長的晶體針形成的閃爍體可能不容易使其自身用于雙層探測器中。

發明內容

能夠需要用于X射線成像，特別是用于具有雙層探測器的X射線成像的備選閃爍體解決方案。

本發明的目的通過獨立權利要求的主題解決，其中，在從屬權利要求中并入了另外的實施例。應當注意，本發明的以下描述的方面同樣適用于X射線探測器、X射線成像裝置、計算機程序單元和計算機可讀介質。

根據本發明的第一方面，提供了一種用于X射線成像的雙層探測器，包括：

至少兩個光敏表面；

第一閃爍體層，其包括能夠將X輻射轉換成光的至少一個閃爍體元件，該元件具有兩個面，即用于允許X輻射進入該元件的入射面和在該入射面的遠端的出射面，其中，兩個面布置成相對于彼此偏移，使得閃爍體元件的縱軸相對于層的法線傾斜；第一閃爍體元件具有在兩個面之間延伸的側壁。閃爍體層中的一個或兩個還包括具有相應兩個面的第二這樣的閃爍體元件，以及在第二閃爍體元件的兩個面之間延伸并且與第一閃爍體的側壁相對或相鄰的側壁。第一閃爍體元件的側壁和第二閃爍體元件的側壁相對于彼此傾斜；

第二這樣的閃爍體層；并且

其中，兩個光敏表面中的至少一個被布置在兩個閃爍體層之間。

雙層類型的X射線探測器可以用于譜/雙重能量成像。

相應的縱軸特別地定義了通過閃爍體元件的在其面之間的部分(“主體”)的X輻射/光的傳播方向。

對準本身通過斜形狀來實現。不需要閃爍體元件的旋轉布置。

所有元件的面定義閃爍體層的近端和遠端表面。給定元件的面是平行的。由于固有的斜度，面形成了閃爍體層的齊平的近端和/或遠端表面。無需額外的部件(諸如，平面化層)以實現表面平整度。