[發(fā)明專利]具有用于均勻成像的聚焦閃爍體結(jié)構(gòu)的X射線探測器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980025284.0
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN111971585A
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: H·施泰因豪澤;O·J·維默斯
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01T1/202
• 分類號: G01T1/202
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄

1.一種用于X射線成像的雙層探測器(XD)，包括：

至少兩個光敏表面(LSS1、LSS2)；

第一閃爍體層(SL、SL1)，其包括能夠?qū)輻射轉(zhuǎn)換為光的至少一個閃爍體元件(SE)，所述元件具有兩個面，所述兩個面是用于使X輻射進入所述元件(SE)的入射面(S1)以及在所述入射面(S1)遠端的出射面(S2)，其中，所述兩個面(S1、S2)被布置為相對于彼此移位，使得所述閃爍體元件(SE)的縱軸(LAX)相對于所述層的法線(n)被傾斜，其中，所述閃爍體元件(SE)具有在所述兩個面(S1、S2)之間延伸的側(cè)壁(w、w1)，所述閃爍體層(SL、SL1)還包括具有側(cè)壁(w’、w1’)的這樣的第二閃爍體元件(SE’)，所述第二閃爍體元件(SE’)與所述第一閃爍體元件(SE)相鄰，其中，所述第一閃爍體元件(SE)的所述側(cè)壁(w、w1)和所述第二閃爍體元件(SE’)的所述側(cè)壁(w’、w1’)相鄰并且相對于彼此被傾斜；

這樣的第二閃爍體層(SL2)；并且

其中，所述光敏表面(LSS1、LSS2)中的至少一個光敏表面被布置在兩個閃爍體層(SL1、SL2)之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層探測器(XD)，其中，至少一個相應(yīng)的閃爍體元件具有傾斜的棱柱形或傾斜的圓錐形或金字塔形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1-2中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，相應(yīng)的所述至少一個元件的截面是多邊形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，相應(yīng)的至少一個閃爍體元件(SE、SE’)的相應(yīng)的截面沿著所述至少一個閃爍體元件的縱軸是恒定的。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，所述兩個面被布置為沿著至少兩個不同的方向(x、z)移位。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，所述相應(yīng)的至少一個元件是通過增材制造形成的。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的雙層探測器(XD)，還包括光反射物質(zhì)(LRS)，所述光反射物質(zhì)至少部分地圍繞相應(yīng)的元件(SE、SE’)。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，所述相應(yīng)的閃爍體元件的相應(yīng)的縱軸(LAX)穿過所述相應(yīng)的閃爍體元件的相應(yīng)的面(S1、S2)并且被對準(zhǔn)以聚焦在被定位于所述層(SL)外部的虛空間點(FS’)上。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，所述兩個光敏表面(LSS1、LSS2)中的至少一個光敏表面具有相應(yīng)的等距像素布局。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的雙層探測器(XD)，其中，所述兩個光敏表面(LSS1、LSS2)被布置在所述兩個閃爍體層(SL1、SL2)之間。

11.一種X射線成像裝置(IA)，其具有X射線探測器(XD)和具有焦斑(FS)的X射線源(XS)，所述X探測器包括根據(jù)前述權(quán)利要求1-10中的任一項所述的至少一個閃爍體層(SL)，所述至少一個元件(SE)具有關(guān)于所述焦斑對準(zhǔn)的所述至少一個元件的縱軸。

12.一種計算機程序單元，所述計算機程序單元當(dāng)由至少一個處理單元(PU)執(zhí)行時適于使材料形成設(shè)備(MFD)在根據(jù)權(quán)利要求1-10中的任一項所述的雙層探測器(XD)中形成所述兩個閃爍體層(SL、SL1、SL2)中的至少一個閃爍體層的至少部分。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計算機程序單元，其中，所述程序單元是用于3D打印的CAD文件的至少部分。

14.一種計算機可讀存儲介質(zhì)(MEM)，在其上存儲有根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的程序單元。