[發明專利]用于掃描曝光裝置的控制方法

有效

• 申請號: 201980023117.2
• 申請日: 2019-02-12
• 公開（公告）號: CN111936934B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: V·阿爾蒂尼;F·斯塔爾斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種用于控制掃描曝光裝置的方法，所述掃描曝光裝置被配置用于掃描襯底上的照射輪廓以在所述襯底上形成功能區域，所述方法包括：

獲取用于在包括所述功能區域的曝光場的曝光期間動態控制所述照射輪廓的控制輪廓；以及

通過以下方式配置所述控制輪廓以提高被包括在所述曝光場內的一個或多個個體功能區域的曝光質量：a)通過附加取決于所述功能區域的尺寸的擴展輪廓，在掃描方向上將所述控制輪廓擴展到所述曝光場的范圍之外，和/或b)對所述控制輪廓應用去卷積方案，其中所述去卷積方案的結構基于所述照射輪廓在所述掃描方向上的尺寸。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述控制輪廓針對致動掃描曝光操作的一個或多個致動器定義隨時間推移的設定點。

3.根據權利要求2所述的方法，其中將所述控制輪廓擴展的步驟包括：針對所述致動器，確定針對在與所述曝光場的曝光相對應的曝光時間段之前和/或之后的時間的設定點。

4.根據權利要求1所述的方法，其中配置所述控制輪廓通過應用所述去卷積方案而實現，并且所述方法還包括：根據被去卷積的控制輪廓而執行一個或多個后續曝光操作。

5.根據權利要求1所述的方法，其中每個功能區域包括一圖案，所述圖案在所述場上重復并且與所曝光的襯底上的個體管芯相對應，并且所述控制輪廓通過附加如下的擴展輪廓而被擴展：至少一個掃入擴展輪廓，所述至少一個掃入擴展輪廓在與所述曝光場的曝光相對應的曝光時間段之前并且與被擴展的掃入區域相對應；以及至少一個掃出擴展輪廓，所述至少一個掃出擴展輪廓在所述曝光時間段之后并且與被擴展的掃出區域相對應。

6.根據權利要求5所述的方法，包括以下步驟：確定與每個功能區域有關的平均校正輪廓，并且將所述掃入擴展輪廓和所述掃出擴展輪廓定義為所述平均校正輪廓。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述平均校正輪廓基于所述控制輪廓的管芯內分量而被確定。

8.根據權利要求7所述的方法，包括：將所述控制輪廓分解為所述管芯內分量、基礎場內分量和場間分量。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述控制輪廓用于控制以下項中的一項或多項：曝光劑量、焦點、套刻和調平。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述控制輪廓包括被卷積的控制輪廓，所述被卷積的控制輪廓與如由曝光狹縫限定的所述照射輪廓相卷積，并且所述去卷積方案對所述被卷積的控制輪廓進行去卷積以使由所述卷積產生的誤差最小化。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所述去卷積方案包括確定Weiner去卷積濾波器，所述Weiner去卷積濾波器在存在噪聲的情況下對被卷積的控制輪廓和照射輪廓進行去卷積。

12.根據權利要求11所述的方法，包括：選擇用于所述Weiner去卷積濾波器中的噪聲項的值以改善對所述掃描曝光裝置的控制。

13.一種掃描曝光裝置，包括能夠操作以執行根據權利要求1所述的方法的處理器。

14.一種非瞬態計算機程序載體，包括程序指令，所述程序指令能夠操作，以當在計算機裝置上運行時執行根據權利要求1所述的方法。

15.一種用于控制掃描裝置的方法，所述掃描裝置被配置用于跨襯底地掃描光子或粒子的射束以在所述襯底上形成功能器件，所述方法包括：

獲取用于在掃描操作期間動態控制所述射束的控制輪廓，其中所述射束的特征在于射束輪廓，所述射束輪廓包括所述射束的在至少掃描方向上的空間擴展的信息；以及

通過將去卷積方案應用于所述控制輪廓來優化射束控制的質量，其中所述去卷積方案的結構基于所述射束輪廓。