[發明專利]酸性氣體吸收材料及其制造方法

有效

• 申請號: 201980018212.3
• 申請日: 2019-11-06
• 公開（公告）號: CN111801151B
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 沼口遼平;吉澤克浩;奧村雄志;西部祥平;下村育生;根上將大
• 申請（專利權）人: 川崎重工業株式會社
• 主分類號: B01D53/14
• 分類號: B01D53/14;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲

1.一種酸性氣體吸收材料，其特征在于，是可逆地吸收被處理氣體中含有的酸性氣體的酸性氣體吸收材料，

由多孔顆粒和擔載于所述多孔顆粒的酸性氣體吸收劑構成，

所述多孔顆粒具有雙峰孔，所述雙峰孔包括具有直徑為2nm以上且200nm以下的納米范圍的細孔徑的中孔和具有直徑超過0.2μm的微米范圍的細孔徑的大孔，所述大孔為空孔，所述中孔由所述酸性氣體吸收劑填充，

通過將所述大孔的內部作為所述被處理氣體的移動場所利用，能使所述酸性氣體向填充于所述中孔的所述酸性氣體吸收劑的擴散變迅速。

2.根據權利要求1所述的酸性氣體吸收材料，其特征在于，

所述多孔顆粒的平均粒徑為1mm以上且5mm以下。

3.根據權利要求1或2所述的酸性氣體吸收材料，其特征在于，

所述多孔顆粒的Log微分細孔容積分布在10nm以上且200nm以下的范圍具有第一峰值，在超過0.2μm且10μm以下的范圍具有第二峰值。

4.根據權利要求1或2所述的酸性氣體吸收材料，其特征在于，

所述多孔顆粒由以下物質構成：從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯及氧化鎂構成的組選擇的至少一種。

5.根據權利要求1或2所述的酸性氣體吸收材料，其特征在于，

所述酸性氣體吸收劑為從由烷醇胺類及多胺類構成的組選擇的至少一種。

6.一種酸性氣體吸收材料的制造方法，其特征在于，

是可逆地吸收被處理氣體中含有的酸性氣體的酸性氣體吸收材料的制造方法，

包括：配制將酸性氣體吸收劑溶于溶劑而得的吸收劑溶液；

使所述吸收劑溶液含浸于多孔顆粒；以及

使所述吸收劑溶液含浸的所述多孔顆粒通風或減壓干燥，

所述多孔顆粒具有雙峰孔，所述雙峰孔包括具有直徑為2nm以上且200nm以下的納米范圍的細孔徑的中孔和具有直徑超過0.2μm的微米范圍的細孔徑的大孔，

通過將所述大孔的內部作為所述被處理氣體的移動場所利用，能使所述酸性氣體向填充于所述中孔的所述酸性氣體吸收劑的擴散變迅速，

將所述中孔的細孔容積設為x［m ³/Kg］，將所述大孔的細孔容積設為y［m ³/Kg］，將所述酸性氣體吸收劑的液體密度設為ρ［Kg/m ³］，將0.8以上且1.2以下的調節系數設為α，所述吸收劑溶液的所述酸性氣體吸收劑的濃度為：

αρx/（x＋y）［Kg/m ³］。

7.根據權利要求6所述的酸性氣體吸收材料的制造方法，其特征在于，

所述多孔顆粒的平均粒徑為1mm以上且5mm以下。

8.根據權利要求6或7所述的酸性氣體吸收材料的制造方法，其特征在于，

所述多孔顆粒的Log微分細孔容積分布在10nm以上且200nm以下的范圍具有第一峰值，在超過0.2μm且10μm以下的范圍具有第二峰值。

9.根據權利要求6或7所述的酸性氣體吸收材料的制造方法，其特征在于，

所述多孔顆粒由以下物質構成：從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯及氧化鎂構成的組選擇的至少一種。

10.根據權利要求6或7所述的酸性氣體吸收材料的制造方法，其特征在于，

所述酸性氣體吸收劑為從由烷醇胺類及多胺類構成的組選擇的至少一種。