[發(fā)明專利]用于雙面處理的圖案化真空吸盤

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980014108.7
• 申請日: 2019-01-29
• 公開（公告）號: CN111742402A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 約瑟夫·尤多夫斯基;維斯韋斯瓦倫·西瓦拉瑪克里施南;盧多維克·戈代;羅格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種基板吸盤設(shè)備，包括：

主體，所述主體具有吸盤表面和相對于所述吸盤表面的底部表面，所述主體具有在所述主體中形成的自所述吸盤表面凹陷的多個孔穴，其中成對的所述多個孔穴與多個第一導(dǎo)管流體連通；和

多個第二導(dǎo)管，所述多個第二導(dǎo)管形成在所述主體中，所述多個第二導(dǎo)管的一個第二導(dǎo)管在所述多個孔穴的一部分之間形成，其中個別地控制成對的所述孔穴中的壓力。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述主體為金屬材料。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述多個孔穴的每一個包含自所述孔穴的底部延伸的支撐構(gòu)件。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述多個第一導(dǎo)管包括第一對導(dǎo)管和第二對導(dǎo)管。

5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第一對導(dǎo)管與所述多個孔穴的第一對孔穴流體連通，且所述第二對導(dǎo)管與所述多個孔穴的第二對孔穴流體連通。

6.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第一對導(dǎo)管與第一真空源流體連通，且所述第二對導(dǎo)管與第二真空源流體連通。

7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中所述第一真空源與所述第二真空源不同。

8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述多個第二導(dǎo)管的每一個耦接至在所述吸盤表面中形成的開口。

9.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中每一開口形成在所述吸盤表面中形成的溝槽圖案中。

10.一種基板吸盤設(shè)備，包括：

圓形主體，所述圓形主體具有吸盤表面；

多個孔穴，所述多個孔穴形成在所述吸盤表面中；

多個第一導(dǎo)管，所述多個第一導(dǎo)管的每一個耦接至在所述吸盤表面中形成的表面通口；

第二導(dǎo)管，所述第二導(dǎo)管耦接至所述多個孔穴的第一對；

第三導(dǎo)管，所述第三導(dǎo)管耦接至所述多個孔穴的第二對；和

第四導(dǎo)管，所述第四導(dǎo)管耦接至所述多個孔穴的第三對，其中個別地控制所述孔穴的所述對的每一者中的壓力。

11.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述吸盤表面包括溝槽圖案。

12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述表面通口與所述溝槽圖案流體連通。

13.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述溝槽圖案環(huán)繞所述多個孔穴的一部分。

14.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述多個孔穴的每一個包含自所述孔穴的底部延伸的支撐構(gòu)件。

15.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述圓形主體為金屬材料。