[發明專利]包括氣鎖的設備

在審

• 申請號: 201980013260.3
• 申請日: 2019-01-18
• 公開（公告）號: CN111712766A
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: G·納吉布奧格魯;D·V·P·漢斯喬特;R·Y·范德莫西迪克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 閆紅

1.一種設備，包括：

襯底臺，用于支撐襯底；

投影系統，具有主體，所述主體限定內部和開口，所述投影系統配置并布置成將輻射束通過所述開口投影到由所述襯底臺支撐的襯底上；

氣鎖，用于提供來自所述開口遠離所述內部的氣流；和

氣流引導件，配置成引導所述氣流的至少一部分遠離由所述襯底臺支撐的襯底。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述氣鎖布置成提供通過所述開口并遠離所述內部的氣流。

3.如權利要求1或2所述的設備，其中所述氣流引導件配置成沿著流體傳導率大體固定的流體路徑引導所述氣流的至少一部分。

4.如任一前述權利要求所述的設備，其中所述氣流引導件配置成使得來自所述開口遠離所述內部的氣流的超過一半被引導遠離由所述襯底臺支撐的所述襯底。

5.如任一前述權利要求所述的設備，其中所述氣流引導件配置成沿著相較于其它可獲得的流體路徑具有較高流體傳導率的流體路徑引導所述氣流的至少一部分。

6.如任一前述權利要求所述的設備，其中所述氣流引導件包括泵，所述泵布置成沿著流體路徑抽取所述氣流的至少一部分。

7.如任一前述權利要求所述的設備，還包括移動機構，所述移動機構用于相對于所述投影系統的所述開口移動所述襯底臺。

8.如任一前述權利要求所述的設備，還包括中間構件，所述中間構件布置在所述開口和所述襯底臺之間，其中所述氣流引導件包括限定在所述中間構件和所述投影系統之間的路徑。

9.如權利要求8所述的設備，其中所述中間構件配置成將沿著限定在所述中間構件與所述投影系統之間的路徑流動的氣體引導至形成于所述投影系統的所述主體的壁內的空腔中。

10.如權利要求8或9所述的設備，其中所述中間構件包括密封元件，所述密封元件圍繞所述投影系統的所述開口的實質上整個周邊朝向所述投影系統的所述主體的壁延伸并與所述壁形成密封關系。

11.如權利要求10所述的設備，其中所述密封元件包括剛性的凸緣部分，其中在所述剛性的凸緣部分和與所述剛性的凸緣部分形成密封關系的所述投影系統的所述主體的所述壁的部分之間設置一間隙。

12.如權利要求10或11所述的設備，還包括柔性膜，所述柔性膜連接于所述中間構件與投影系統的所述主體的所述壁之間。

13.如權利要求8-12中任一項所述的設備，其中所述中間構件能夠相對于所述投影系統至少在第一操作位置和第二縮回位置之間移動。

14.如權利要求8-13中任一項所述的設備，其中所述中間構件能夠操作以冷卻所述襯底的圍繞所述襯底的被輻射束輻照的區的區。

15.如權利要求14所述的設備，其中所述中間構件能夠操作以將冷卻氣流引導至所述襯底的圍繞所述襯底的被輻射束輻照的區的區。

16.如權利要求14或14所述的設備，其中所述中間構件包括冷卻構件，所述冷卻構件被維持在比所述襯底臺更低的溫度，所述中間構件還包括熱屏蔽件，所述熱屏蔽件被布置成使得所述襯底臺和/或所述投影系統與所述冷卻構件熱絕緣。

17.一種光刻設備，包括：

照射系統，配置成調節輻射束；

支撐結構，構造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面中將圖案賦予所述輻射束以形成圖案化的輻射束；和

任一前述權利要求所述的設備，其中所述投影系統配置成接收所述圖案化的輻射束并將所述圖案化的輻射束投影到由所述襯底臺支撐的襯底上。