[發明專利]離子槍

有效

• 申請號: 201980010691.4
• 申請日: 2019-03-22
• 公開（公告）號: CN111656481B
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 湯瀨琢巳;寺澤壽浩
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: H01J27/14
• 分類號: H01J27/14;H01J37/08
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 崔今花;周艷玲

本發明的離子槍具備：陽極；磁極，具有與所述陽極相對的內表面、位于所述內表面的相反側的外表面、設置在與所述陽極對應的位置上的狹縫和從所述外表面的一端朝向所述狹縫的中央延伸且形成所述狹縫的一部分的外傾斜面；和罩，至少包覆所述外表面及所述外傾斜面且由非磁性材料構造。

技術領域

本發明涉及一種離子槍。

本申請在2018年3月22日向日本提出的專利申請2018-054700號的基礎上要求優先權，并在此援引其內容。

背景技術

以往，經常使用利用從離子槍引出的離子束的工藝，在各種裝置中搭載有離子槍。一般而言，離子槍具有以下結構(例如，參見專利文獻1)：該結構在形成于磁極(陰極)的狹縫與陽極(anode)之間生成等離子體，并且經由狹縫向外部引出離子束。

專利文獻1：美國專利申請公開第2012/0187843號說明書

近年來，要求通過增強離子槍的磁場強度來提高被處理體的蝕刻速率的工藝。然而，這種工藝具有因等離子體而磁極容易消耗、磁極的狹縫間隔(缺口)變寬且放電電流下降的問題。另外，還具有將消耗的電極更換為新電極的頻率增加且維護性差的問題。此外，伴隨磁極的消耗，產生起因于磁極材料的污染，具有對使用離子槍的工藝帶來不良影響的問題。

發明內容

本發明是考慮上述情況而提出的，其目的是提供一種離子槍，該離子槍能夠抑制形成于磁極上的狹縫的磨損，通過降低磁極更換頻率來提高維護性，并且抑制產生起因于磁極材料的污染。

本發明的一方式的離子槍包括：陽極；磁極，具有與所述陽極相對的內表面、位于所述內表面的相反側的外表面、設置在與所述陽極對應的位置上的狹縫和從所述外表面的一端朝向所述狹縫的中央延伸且形成所述狹縫的一部分的外傾斜面；和罩，至少包覆所述外表面及所述外傾斜面且由非磁性材料構造。

在本發明的一方式的離子槍中，所述磁極可具有從所述外傾斜面的一端朝向所述內表面延伸且形成所述狹縫的一部分的相互平行的豎直面，所述罩包覆所述豎直面。

在本發明的一方式的離子槍中，所述磁極可具有從所述內表面的一端朝向所述狹縫的中央延伸且形成所述狹縫的一部分的內傾斜面。

在本發明的一方式的離子槍中，所述罩可包括：包覆所述磁極的所述外表面的第一包覆部；和與所述第一包覆部相連且包覆所述外傾斜面的第二包覆部。

在本發明的一方式的離子槍中，所述罩可包括與所述第二包覆部相連的第三包覆部，所述第三包覆部從所述第一包覆部和所述第二包覆部所相連的部分的相反側部分朝向所述陽極延伸。

在本發明的一方式的離子槍中，構造所述罩的所述非磁性材料可由從由碳、鈦及銅組成的組中選擇的材料構造。特別是，構造所述罩的所述非磁性材料優選為碳。

根據本發明的上述方式，能夠抑制發生于磁極的狹縫中的磨損，通過降低磁極更換頻率而提高維護性，并且抑制產生起因于磁極材料的污染。

附圖說明

圖1是表示本發明的實施方式的線性離子槍的大致結構的立體圖。

圖2是表示本發明的實施方式的線性離子槍的大致結構的圖，是沿圖1所示的A-A線的剖面圖。

圖3是表示本發明的實施方式的線性離子槍的主要部分的放大剖面圖。

圖4是表示本發明的實施方式的變形例1的線性離子槍的主要部分的放大剖面圖。

圖5是表示本發明的實施方式的變形例2的線性離子槍的主要部分的放大剖面圖。

圖6是表示本發明的實施方式的變形例3的線性離子槍的主要部分的放大剖面圖。

圖7是表示用于說明本發明的實施例的實驗結果的圖表。