[發明專利]濺射靶以及磁性膜

有效

• 申請號: 201980007232.0
• 申請日: 2019-05-23
• 公開（公告）號: CN111566253B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 巖淵靖幸;增田愛美;小莊孝志
• 申請（專利權）人: JX金屬株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;G11B5/65;G11B5/851
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

一種濺射靶，其含有0.001mol％～0.5mol％的Bi、45mol％以下的Cr、45mol％以下的Pt、60mol％以下的Ru、合計1mol％～35mol％的金屬氧化物，剩余部分包含Co和不可避免的雜質。

技術領域

本說明書公開一種涉及濺射靶以及磁性膜的技術。

背景技術

例如，在制造磁記錄介質時，構成該磁記錄介質的記錄層和其他規定的多個層分別通過使用與該各層對應的多個濺射靶在基板上進行濺射來依次成膜而形成。其中，有時會使用使規定的氧化物粒子分散于以Co為主成分且含有Cr和Pt的金屬相中而成的濺射靶(例如參照專利文獻1～10)。

再者，在通過濺射進行的成膜時，有時會產生異常放電、所謂的發弧(arcing)，由此存在如下問題：產生作為向基板上的附著物的顆粒，這會使成膜的成品率降低。

特別是，在如上所述的磁性材料用的濺射靶中，認為添加于Co－Cr－Pt系合金的氧化物在發弧時從濺射靶脫落，這成為顆粒產生的原因。

關于這樣的問題，在專利文獻11中，記載有“發現了通過在利用球磨機等將原料粉末混合、粉碎時，混合預先將原料粉末混合、燒結、粉碎而得到的一次燒結體粉末，靶組織更加細微化。”，并記載有使用了該見解的磁記錄膜形成用濺射靶的制造方法。具體而言，提出了“一種磁記錄膜形成用濺射靶的制造方法，其特征在于，所述磁記錄膜形成用濺射靶含有非磁性氧化物、Cr以及Pt，剩余部分由Co和不可避免的雜質構成，所述磁記錄膜形成用濺射靶的制造方法包括：一次燒結工序，使將Co、Cr以及Pt的各元素以單質的形式或以包含其中兩種以上的元素的合金的形式制成粉末的原料粉末與非磁性氧化物的原料粉末的各原料粉末混合而成的一次混合粉末燒結而得到一次燒結體；粉碎工序，將所述一次燒結體粉碎而得到一次燒結體粉末；以及二次燒結工序，將所述各原料粉末混合而成的二次混合粉末與所述一次燒結體粉末混合并粉碎后使其燒結，其中，所述二次混合粉末的平均粒徑為0.05～30μm，所述一次燒結體粉末的最大粒徑小于200μm”。并且，由此，認為“能均勻地得到高品質的膜，并且能減少顆粒的產生，特別是能制作高密度的垂直磁記錄方式的介質。”。

此外，在專利文獻12中，公開了“一種濺射靶，其特征在于，是具有金屬相與氧化物相均勻分散的組織的燒結體濺射靶，該金屬相含有Co、Pt以及Mn作為成分，該氧化物相含有至少以Mn為構成成分的氧化物”。根據專利文獻12的濺射靶，認為“具有能減少在濺射時產生的顆粒量、能提高成膜時的成品率這樣的優異效果。”。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2011－208169號公報

專利文獻2：日本特開2011－174174號公報

專利文獻3：日本特開2011－175725號公報

專利文獻4：日本特開2012－117147號公報

專利文獻5：日本專利第4885333號公報

專利文獻6：美國專利申請公開第2013/0134038號說明書

專利文獻7：國際公開第2012/086388號

專利文獻8：美國專利申請公開第2013/0213802號說明書

專利文獻9：國際公開第2015/064761號

專利文獻10：美國專利申請公開第2016/0276143號說明書

專利文獻11：日本特開2011－208169號公報

專利文獻12：國際公開第2014/141737號

發明內容

發明所要解決的問題