[發明專利]濺鍍靶材和濺鍍靶有效
| 申請號： | 201980006346.3 | 申請日： | 2019-02-12 |
| 公開（公告）號： | CN111465713B | 公開（公告）日： | 2022-05-03 |
| 發明（設計）人： | 田尾幸樹;畠英雄 | 申請（專利權）人： | 株式會社鋼臂功科研 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C01G25/00;C04B35/457;G11B7/2578;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址： | 日本兵庫縣神戶市*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺鍍靶材 濺鍍靶 | ||
【權利要求書】：
1.一種濺鍍靶材，包含鋅的氧化物、錫的氧化物及鋯的氧化物，其中
相對于氧以外的所有元素，
鋅的含量AZn為超過0at％且50at％以下，
錫的含量ASn為20at％以上且80at％以下，及
鋯的含量AZr為超過5at％且40at％以下，而且
鋅的含量AZn滿足下述式(1)；
經測定的多個比電阻值中最大值相對于最小值的比為3以下，及
所述比電阻值為5×10-1Ω·cm以下；而且
所述濺鍍靶材不含有銦，
AZn/(AZn+ASn)≦0.6·····(1)。
2.根據權利要求1所述的濺鍍靶材，具有SnO2相及Zn2SnO4相，所述Zn2SnO4相中的Zr元素濃度相對于所述SnO2相中的Zr元素濃度的比為0.1以上且5以下。
3.根據權利要求1所述的濺鍍靶材，包含ZrO2的結晶粒，所述ZrO2的結晶粒的平均粒徑為5μm以下。
4.根據權利要求2所述的濺鍍靶材，包含ZrO2的結晶粒，所述ZrO2的結晶粒的平均粒徑為5μm以下。
5.一種濺鍍靶，包含如權利要求1至4中任一項所述的濺鍍靶材。
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