[實(shí)用新型]一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201922495484.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN211605103U | 公開(公告)日: | 2020-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪竹;魏益波;錢燕娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王凱 |
| 地址: | 214400 江蘇省無錫市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)軌 剝離 清洗 裝置 | ||
1.一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:所述裝置包含有排在一直線上的浸泡單元(1)、清洗單元(2)和片盒單元(3),搬運(yùn)單元(4)包含有傳送軌道(4.1),運(yùn)行于傳送軌道(4.1)上的傳動(dòng)模塊一(4.2)和傳動(dòng)模塊二(4.3),所述傳動(dòng)模塊一(4.2)和傳動(dòng)模塊二(4.3)上均安裝有機(jī)械手。
2.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:所述浸泡單元(1)、清洗單元(2)和片盒單元(3)的中心位于中心線(101)上,所述傳送軌道(4.1)與中心線(101)相平行。
3.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:所述裝置還包含有勻膠單元和顯影單元,所述浸泡單元(1)、清洗單元(2)、片盒單元(3)、勻膠單元和顯影單元的中心均位于中心線(101)上。
4.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:所述浸泡單元(1)包含有盛裝溶劑的清洗槽、安裝于升降裝置上的平臺(tái)板,且平臺(tái)板位于清洗槽的正上方。
5.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:所述清洗單元(2)包含有帶有頂蓋的清洗腔,且清洗腔相互獨(dú)立設(shè)置有多個(gè),且清洗單元(2)還包含有位于側(cè)壁的排風(fēng)機(jī)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:傳動(dòng)模塊二(4.3)上的機(jī)械抓手為濕爪,濕爪上承載基片的一面開設(shè)兩條凹槽。
7.如權(quán)利要求6所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:其中一凹槽的槽面上開有多個(gè)通孔。
8.如權(quán)利要求1所述一種導(dǎo)軌式剝離清洗裝置,其特征在于:傳動(dòng)模塊一(4.2)通為干爪,干爪上承載基片的一面開設(shè)數(shù)個(gè)凸起,凸起上有數(shù)個(gè)與抽真空裝置相連的小孔。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





